極端紫外線と呼ばれる波長13.5nmの光を用いて、1桁nmの微細なプロセスを採用した半導体を形成する露光技術である「EUV」を活用した最先端の半導体実現に向けた研究活動や企業動向についてお届けします。
吉川明日論の半導体放談 第381回 上昇するウェハ価格とAI半導体のダイナミクス
imec、従来型レジストで高NA EUVによるA14/A10ロジックパターン形成に成功
高NA EUV露光装置の量産活用で先行するのはどこか? Intel、Samsung、TSMC各社の戦略
AI半導体の進化を支える次世代基板、サムスン電機が2.5D/2.1Dとガラス基板を披露
MediaTek、2nm採用のスマホ向けSoC「Dimensity 9600 Pro」を発表
インテルや東芝といった半導体メーカーや、CPU、メモリなどの半導体デバイスに関わる情報、市場トレンドといったホットなニュースを毎日更新。注目のIoTや自動運転など、半導体の適用範囲の拡大とともに成長が続く半導体業界の話題を詳細な説明付きで紹介します。