「EUV」のニュースまとめ

極端紫外線と呼ばれる波長13.5nmの光を用いて、1桁nmの微細なプロセスを採用した半導体を形成する露光技術である「EUV」を活用した最先端の半導体実現に向けた研究活動や企業動向についてお届けします。

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  TSMCの2024年8月売上高は前年同月比33％増、8月単月売上高の過去最高を更新

  2024/09/11 14:25
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  産総研とEUV研究で連携、前工程から後工程まで半導体技術開発で日本との関係性強化を図るIntel

  2024/09/03 18:46 レポート
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  imec、高NA EUV露光によるロジックとDRAMの良好なパターニング結果を確認

  2024/08/08 15:59
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  九大、EUV光照射と解析評価サービスを提供する事業会社「EUVフォトン」を設立

  2024/08/06 21:40
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  OIST、消費電力従来比1/10以下のEUVリソグラフィー半導体製造技術を提案

  2024/07/30 19:09
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  宇大など、EUV光源の高効率化に貢献するマルチレーザー照射法を実証

  2024/07/29 12:05
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  TSMC、Intel、SK hynixが語る半導体産業/技術の将来展望 - ITF World 2024 第2回 TSMCのSVPが語った半導体の技術進化と産業の発展の密接な関係性

  2024/07/18 11:29 連載
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  米国政府がCHIPS法に基づく研究開発施設の選定方法を発表、NSTCの稼働は2025年以降を予定

  2024/07/16 15:18
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  TEL、EUV露光工程向けガスクラスタービーム装置「Acrevia」の販売を開始

  2024/07/09 12:53
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  ASMLとSamsung、韓国華城市に次世代EUV活用研究開発センターの建設を計画

  2024/07/09 11:07
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  imecがロジック向け微細化ロードマップを更新、ASMLが超高NAのEUV装置の開発を開始

  2024/06/25 14:51 レポート
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  Intel、Intel 3プロセスの詳細をVLSI Symposium 2024で公開

  2024/06/20 06:45 レポート
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  TSMCトップらが5月下旬にASML本社を訪問、高NA EUV導入に向けた協議を実施か？

  2024/06/13 09:08
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  imecとASMLがオランダで高NA EUVリソグラフィラボを開設、2025年以降の実用化へ弾み

  2024/06/07 06:30
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  imecが2nm以下のSoC試作ラインを建設へ、投資総額約4200億円を予定

  2024/05/22 14:03
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  TSMCがA16プロセスでも高NA EUVを使わない可能性を指摘　台湾メディア報道

  2024/05/20 10:10
• テクノロジー

  TSMC、2nmの先となる微細プロセス「A16」や新規実装技術などの次世代技術を発表

  2024/05/01 16:43 レポート
• テクノロジー

  「ラピダスは技術を受け入れる準備が整いつつある」 - IBM半導体研究のキーマン

  2024/04/25 08:00 レポート
• テクノロジー

  Intelが語った高NA EUV露光装置導入による4つのメリット、2025年には量産モデルの導入も計画

  2024/04/22 12:34 レポート
• テクノロジー

  Intelに納入された高NA EUV露光装置の組み立てが完了、Intel 18A以降で活用へ

  2024/04/19 20:38