Powered by
Powered by
極端紫外線と呼ばれる波長13.5nmの光を用いて、1桁nmの微細なプロセスを採用した半導体を形成する露光技術である「EUV」を活用した最先端の半導体実現に向けた研究活動や企業動向についてお届けします。
高NA EUV露光装置の量産活用で先行するのはどこか？ Intel、Samsung、TSMC各社の戦略
imec、従来型レジストで高NA EUVによるA14/A10ロジックパターン形成に成功
AI半導体の進化を支える次世代基板、サムスン電機が2.5D/2.1Dとガラス基板を披露
東邦チタニウム、AIデータセンター向けMLCC用超微粉ニッケルの生産能力を2倍へ
ST、車室内監視向け1.1MP車載イメージセンサを発表 赤外線感度を約60％向上
インテルや東芝といった半導体メーカーや、CPU、メモリなどの半導体デバイスに関わる情報、市場トレンドといったホットなニュースを毎日更新。注目のIoTや自動運転など、半導体の適用範囲の拡大とともに成長が続く半導体業界の話題を詳細な説明付きで紹介します。
