「EUV」の新着記事

極端紫外線と呼ばれる波長13.5nmの光を用いて、1桁nmの微細なプロセスを採用した半導体を形成する露光技術である「EUV」を活用した最先端の半導体実現に向けた研究活動や企業動向についてお届けします。

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  OIST、小型・低コストな高開口数EUVリソグラフィの可能性を提示

  2026/06/23 14:34
• テクノロジー

  TSMCの2026年5月売上高、前年同月比30％増の4170億NTドル　世界時価総額ランキングでトップ10入り

  2026/06/11 09:47 レポート
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  xLight、米政府とCHIPS法に基づく1億5000万ドルの交付契約を締結　FEL方式EUV光源の実証を加速

  2026/06/03 12:25 レポート
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  LSTC、1nm世代配線の寿命ばらつきを解明　ルテニウム/エアギャップで設計指針

  2026/06/02 17:08
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  インテグリスとJSR/Inpria、EUV材料でクロスライセンス　次世代レジスト開発を加速

  2026/06/01 06:50
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  Huaweiが「ムーアの法則」に代わる「タウの法則」を発表、2031年にEUVなしで1.4nm相当の半導体量産めざす

  2026/05/27 17:31 レポート
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  半導体生産に影落とすイラン情勢　EUVプロセスに深刻な影響、最大の懸念は「長期化」

  2026/05/25 17:05 レポート
• テクノロジー

  imecが高NA EUVによる量子ドット量子ビットデバイスを実証、量産化への技術基盤を提示

  2026/05/20 06:30
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  TSMCがA14発展版となる「A13」と「A12」プロセスを発表、2029年より量産開始を予定

  2026/04/27 12:52 レポート
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  EUVレジストと先端パッケージ向け絶縁膜でAI時代の半導体技術の課題解決に挑む富士フイルム

  2026/04/16 16:41 レポート
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  ASMLが7四半期連続で増収増益、韓国での需要急増で2026年通期売上高見通しを上方修正

  2026/04/16 14:05 レポート
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  住友化学が大阪工場に先端半導体用フォトレジスト技術棟の新設へ、2027年度末完成予定

  2026/04/09 20:10
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  Intel、アイルランドのIntel3/4対応工場「Fab 34」の株式49％を投資会社より買戻し

  2026/04/02 15:18
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  imecに高NA EUV露光装置の量産機が搬入、NanoICプロジェクトの2nm試作受託製造に進展

  2026/03/25 06:45 レポート
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  米国を中心に進むデバイスメーカーと装置メーカーの協業、次世代半導体プロセス開発を推進

  2026/03/17 12:52 レポート
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  ASMLがEUV光源出力を1000Wへ引き上げる技術を開発、スループットを50％向上

  2026/02/27 20:32 レポート
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  東京応化、EUV向けフォトレジストの強化に向けて英IMへの戦略的投資を実施

  2026/02/24 15:55
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  欧州NanoICプロジェクトの2nm超パイロットラインがimec 300mmクリーンルーム内に開設

  2026/02/17 16:07 レポート
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  5つのメガトレンドから読み解く2026年の半導体産業展望 - TechInsightsが予想

  2026/02/02 14:19 レポート
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  ASML、2025年第4四半期/通期決算ともに好調も1700人の解雇を計画

  2026/01/29 16:07 レポート