「EUV」の新着記事

極端紫外線と呼ばれる波長13.5nmの光を用いて、1桁nmの微細なプロセスを採用した半導体を形成する露光技術である「EUV」を活用した最先端の半導体実現に向けた研究活動や企業動向についてお届けします。

• テクノロジー

  Intel、アイルランドのIntel3/4対応工場「Fab 34」の株式49％を投資会社より買戻し

  2026/04/02 15:18
• テクノロジー

  imecに高NA EUV露光装置の量産機が搬入、NanoICプロジェクトの2nm試作受託製造に進展

  2026/03/25 06:45 レポート
• テクノロジー

  米国を中心に進むデバイスメーカーと装置メーカーの協業、次世代半導体プロセス開発を推進

  2026/03/17 12:52 レポート
• テクノロジー

  ASMLがEUV光源出力を1000Wへ引き上げる技術を開発、スループットを50％向上

  2026/02/27 20:32 レポート
• テクノロジー

  東京応化、EUV向けフォトレジストの強化に向けて英IMへの戦略的投資を実施

  2026/02/24 15:55
• テクノロジー

  欧州NanoICプロジェクトの2nm超パイロットラインがimec 300mmクリーンルーム内に開設

  2026/02/17 16:07 レポート
• テクノロジー

  5つのメガトレンドから読み解く2026年の半導体産業展望 - TechInsightsが予想

  2026/02/02 14:19 レポート
• テクノロジー

  ASML、2025年第4四半期/通期決算ともに好調も1700人の解雇を計画

  2026/01/29 16:07 レポート
• テクノロジー

  吉川明日論の半導体放談 第360回 中国で極秘裏に始動した「中国版マンハッタン計画」

  2026/01/06 14:10 連載
• テクノロジー

  imec、EUVリソ活用による300mmウェハスケール固体ナノポア製作に成功

  2025/12/12 10:52
• テクノロジー

  DNP、1.4nm世代にも対応可能な回路線幅10nmNIL用テンプレートを開発

  2025/12/09 12:04
• テクノロジー

  米トランプ政権、元インテルのゲルシンガー氏の半導体スタートアップに1億5000万ドルの出資

  2025/12/03 14:57
• テクノロジー

  ADEKAがEUV向けMOR用金属化合物のプラント新設を決定、投資額は32億円

  2025/11/21 11:39
• テクノロジー

  ASMLの2025年第3四半期の売上高は75億ユーロ、中国向けが全体の42％に

  2025/10/20 14:47 レポート
• テクノロジー

  9月27日～10月3日の注目半導体ニュース - Intelのオハイオ工場の開設延期に米議員が圧力

  2025/10/03 21:19 レポート
• テクノロジー

  SCREENとIBM、次世代EUVリソグラフィ向け洗浄プロセス開発に関する契約締結

  2025/10/01 19:19
• テクノロジー

  9月22日～9月26日の注目半導体ニュース - 中国勢が露光装置の開発を加速

  2025/09/26 20:36 レポート
• テクノロジー

  中国勢が開発した液浸露光装置をSMICが評価か？、EUVも開発中　海外メディア報道

  2025/09/25 10:59 レポート
• テクノロジー

  JSRとInpriaがLam Researchと協業、次世代半導体製造に向けたクロスライセンス契約を締結

  2025/09/24 16:04
• テクノロジー

  eBeam Initiative、2025年のフォトマスク市場をプラス成長と予測　AGCが新メンバーとして加入

  2025/09/24 12:45