imec研究開発担当副社長、先進的なパターン開発担当。仏サクレー大学でプラズマ物理学の博士号を取得。2001年にimecに入社し、2018年5月までimecの計測グループリーダーを務めた後、先進パターニング部門のディレクターに就任し、2025年にはAngstrom Patterning Development担当研究開発担当副社長に就任した。この部門は150名のエンジニアで構成され、imecの先進ノード（CFET、高NA、裏面パターニング、3DDRAMなど）向けの先進リソグラフィ、イメージング、材料、OPC、インライン計測、検査の開発を統括している。imec入社後最初の12年間、オーバーレイ技術（DBOおよび多層ターゲット）の評価を担当。また、imecプロセス（CMP後のフィン、ゲート、BEOL）向けの散乱測定モデルを開発。これまでに100件以上の論文に貢献してきた。