Micron、米国でのメモリ製造と研究開発に約2000億ドルの投資を決定

Micron Technologyは6月12日(米国時間)、米国のトランプ政権と協調して米国への半導体メモリの製造および研究開発に約2000億ドルを投じる計画を発表した。

内訳としては、メモリ製造に約1500億ドル、研究開発に500億ドルとしており、推定9万人の直接および間接雇用を生み出すという。

投資先はアイダホ州とバージニア州

具体的な投資先としては、アイダホ州ボイシ(ボイジー)での2つ目の最先端メモリ工場の建設、バージニア州マナサスの既存施設の拡張および近代化改修、そしてHBMの長期的な成長を支援することを目的とした先端パッケージング能力の追加などを挙げている。

研究開発投資を含め、取り組みについて同社ではDRAMの40％を米国で生産するという自社の目標を支援することを目的として設計されたもので、アイダホ州の2つの最先端メモリ工場を研究開発拠点と併設することで、スケールメリットの促進を図り、HBMを含む最先端メモリ製品の市場投入期間の短縮を図っていくと説明している。

バージニア州の工場で1α DRAMの製造を計画

このアイダホ州の1番目の最先端メモリ工場は2027年より生産を開始する計画だが、2つの工場を構えることで、AIで拡大する市場ニーズに応えることが可能となると同社では説明している。また、ニューヨーク州の工場については、同州ならびに連邦政府の環境審査などを経た後、2025年内の造成を開始する予定だが、アイダホ州の2つ目の先端メモリ工場の方が、ニューヨーク州の1つ目の工場よりも先に稼働開始となる見込みだという。さらに、HBM向けパッケージングの生産については、このアイダホ州の2つ目の工場の完成に合わせる形で導入するとしている。

一方のバージニア州のマナサス工場の拡張と近代化改修は、米国のCHIPS法に基づく2億7500万ドルの直接資金の提供を獲得済みで、2025年中に着手される予定。これにより、同社の1α DRAMがオンショア化され、産業、自動車、防衛・航空宇宙、医療機器といった主要分野への継続的なコミットメントの強化につながると同社では説明している。

なお、同社はCHIPS法に基づく資金提供を最大61億4000万ドル受け取ることで前バイデン政権時代に合意しており、その対象の中心はニューヨーク州の工場建設とアイダホ州の1つ目の工場建設となっている。