半導体製造向けイオン注入ソリューションを手掛けるAxcelis Technologiesは3月31日(米国時間)、発注先の日本の主要パワーデバイス・チップメーカーに向けて、自社の高エネルギーイオン注入装置「Purion XEシリーズ」ならびに中電流イオン注入装置「Purion Mシリーズ」の追加出荷を開始したことを発表した。

これらのシステムは、車載およびその他のパワー管理アプリケーション用MOSFETならびにIGBTデバイスの300mmウェハでの量産に適用される予定で、今回の日本顧客への追加出荷を受け、同社では、日本でのPurionプラットフォームの普及を拡大し、製造能力の拡大という顧客の目標をサポートするのを楽しみにしているとコメントしている。