「imec」のニュースまとめ

ベルギーのルーベンに本拠地を構える半導体の先端技術研究開発を行う国際研究機関であるimec。近年、適用分野の拡大を進め、太陽電池や有機半導体、バイオ関連などの技術研究も行っている同社の最新の研究情報などをお届けします。

2023年06月06日(火)

テクノロジー

ITF World 2023 第3回高NA EUV一番乗りのIntelが語った超微細化に向けた将来戦略

2023/06/06 07:05 連載

2023年05月31日(水)

テクノロジー

ITF World 2023 第2回 Rapidus小池社長がITF World 2023で語った2nm半導体の受託戦略

2023/05/31 07:45 連載

2023年05月30日(火)

テクノロジー

ITF World 2023 第1回欧州連合の110億ユーロ半導体産業支援活動方針が明らかに

2023/05/30 07:05 連載

2023年05月26日(金)

テクノロジー

imec、CuやRuより低い抵抗率の二元合金導電膜を300mmウェハで実証

2023/05/26 20:30

2023年05月22日(月)

テクノロジー

岸田首相が海外の半導体関連企業トップらと意見交換、日本への投資の内容を読み解く

2023/05/22 20:11

2023年05月19日(金)

テクノロジー

imecの日本への研究拠点進出は未だ検討中、ヘルスケアや車載応用の可能性も

2023/05/19 19:54 レポート

2023年05月18日(木)

テクノロジー

KLAとimec、自動車産業の電動化推進に向けたイニシアチブを設立

2023/05/18 10:09

2023年05月17日(水)

2023年05月16日(火)

テクノロジー

imecの「持続可能な半導体技術研究プログラム」にファウンドリ大手3社が参加

2023/05/16 16:47

2023年05月15日(月)

テクノロジー

imecの担当者が語る究極のトランジスタ構造「CFET」の製造プロセス第2回 CFET実現に向けた2つの異なるプロセス - モノリシックとシーケンシャル

2023/05/15 07:05 連載

2023年05月11日(木)

テクノロジー

imecの担当者が語る究極のトランジスタ構造「CFET」の製造プロセス第1回ロジックテクノロジのロードマップに登場した究極のトランジスタ「CFET」

2023/05/11 07:05 連載

2023年05月09日(火)

テクノロジー

VLSIシンポジウム 2023プレビュー第2回先端CMOSおよびメモリ技術分野の注目論文

2023/05/09 06:30 連載

2023年05月08日(月)

テクノロジー

西村経産相がベルギーのimecを視察、日本での拠点設立を誘致

2023/05/08 16:21

2023年05月01日(月)

テクノロジー

Rapidus、千歳市に最先端半導体工場の建設を開始

2023/05/01 11:12

2023年04月12日(水)

テクノロジー

imecのパターニング責任者が語った半導体プロセス微細化の課題と革新第3回デバイス構造のパターニングへの影響/環境へのパターニングの影響

2023/04/12 07:05 連載

2023年04月11日(火)

テクノロジー

imecのパターニング責任者が語った半導体プロセス微細化の課題と革新第2回 EUVリソグラフィにおけるフォトレジストやマスクといった材料の課題

2023/04/11 07:05 連載

2023年04月10日(月)

テクノロジー

imecのパターニング責任者が語った半導体プロセス微細化の課題と革新第1回高NA EUVリソグラフィ導入の準備と課題

2023/04/10 07:10 連載

2023年04月05日(水)

テクノロジー

Rapidusがimecの半導体微細化コアパートナープログラムへの参加契約を締結

2023/04/05 19:04

2023年03月27日(月)

テクノロジー

Intel共同創業者ゴードン・ムーア氏の死去に半導体業界からの追悼が相次ぐ

2023/03/27 19:02

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「imec」のニュースまとめ

ITF World 2023 第3回高NA EUV一番乗りのIntelが語った超微細化に向けた将来戦略

ITF World 2023 第2回 Rapidus小池社長がITF World 2023で語った2nm半導体の受託戦略

ITF World 2023 第1回欧州連合の110億ユーロ半導体産業支援活動方針が明らかに

imec、CuやRuより低い抵抗率の二元合金導電膜を300mmウェハで実証

岸田首相が海外の半導体関連企業トップらと意見交換、日本への投資の内容を読み解く

imecの日本への研究拠点進出は未だ検討中、ヘルスケアや車載応用の可能性も

KLAとimec、自動車産業の電動化推進に向けたイニシアチブを設立

imec、UBIによるスタートアップ育成団体ランキングで1位を獲得

imecの担当者が語る究極のトランジスタ構造「CFET」の製造プロセス第3回シーケンシャルCFET実現のためのプロセス - 低温スマートカット層転写

imecの「持続可能な半導体技術研究プログラム」にファウンドリ大手3社が参加

imecの担当者が語る究極のトランジスタ構造「CFET」の製造プロセス第2回 CFET実現に向けた2つの異なるプロセス - モノリシックとシーケンシャル

imecの担当者が語る究極のトランジスタ構造「CFET」の製造プロセス第1回ロジックテクノロジのロードマップに登場した究極のトランジスタ「CFET」

VLSIシンポジウム 2023プレビュー第2回先端CMOSおよびメモリ技術分野の注目論文

西村経産相がベルギーのimecを視察、日本での拠点設立を誘致

Rapidus、千歳市に最先端半導体工場の建設を開始

imecのパターニング責任者が語った半導体プロセス微細化の課題と革新第3回デバイス構造のパターニングへの影響/環境へのパターニングの影響

imecのパターニング責任者が語った半導体プロセス微細化の課題と革新第2回 EUVリソグラフィにおけるフォトレジストやマスクといった材料の課題

imecのパターニング責任者が語った半導体プロセス微細化の課題と革新第1回高NA EUVリソグラフィ導入の準備と課題

Rapidusがimecの半導体微細化コアパートナープログラムへの参加契約を締結

Intel共同創業者ゴードン・ムーア氏の死去に半導体業界からの追悼が相次ぐ

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ITF World 2023 第3回 高NA EUV一番乗りのIntelが語った超微細化に向けた将来戦略

ITF World 2023 第2回 Rapidus小池社長がITF World 2023で語った2nm半導体の受託戦略

ITF World 2023 第1回 欧州連合の110億ユーロ半導体産業支援活動方針が明らかに

imec、CuやRuより低い抵抗率の二元合金導電膜を300mmウェハで実証

岸田首相が海外の半導体関連企業トップらと意見交換、日本への投資の内容を読み解く

imecの日本への研究拠点進出は未だ検討中、ヘルスケアや車載応用の可能性も

KLAとimec、自動車産業の電動化推進に向けたイニシアチブを設立

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imecの担当者が語る究極のトランジスタ構造「CFET」の製造プロセス 第3回 シーケンシャルCFET実現のためのプロセス - 低温スマートカット層転写

imecの「持続可能な半導体技術研究プログラム」にファウンドリ大手3社が参加

imecの担当者が語る究極のトランジスタ構造「CFET」の製造プロセス 第2回 CFET実現に向けた2つの異なるプロセス - モノリシックとシーケンシャル

imecの担当者が語る究極のトランジスタ構造「CFET」の製造プロセス 第1回 ロジックテクノロジのロードマップに登場した究極のトランジスタ「CFET」

VLSIシンポジウム 2023プレビュー 第2回 先端CMOSおよびメモリ技術分野の注目論文

西村経産相がベルギーのimecを視察、日本での拠点設立を誘致

Rapidus、千歳市に最先端半導体工場の建設を開始

imecのパターニング責任者が語った半導体プロセス微細化の課題と革新 第3回 デバイス構造のパターニングへの影響/環境へのパターニングの影響

imecのパターニング責任者が語った半導体プロセス微細化の課題と革新 第2回 EUVリソグラフィにおけるフォトレジストやマスクといった材料の課題

imecのパターニング責任者が語った半導体プロセス微細化の課題と革新 第1回 高NA EUVリソグラフィ導入の準備と課題

Rapidusがimecの半導体微細化コアパートナープログラムへの参加契約を締結

Intel共同創業者ゴードン・ムーア氏の死去に半導体業界からの追悼が相次ぐ

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ITF World 2023 第3回高NA EUV一番乗りのIntelが語った超微細化に向けた将来戦略

ITF World 2023 第1回欧州連合の110億ユーロ半導体産業支援活動方針が明らかに

imecの担当者が語る究極のトランジスタ構造「CFET」の製造プロセス第3回シーケンシャルCFET実現のためのプロセス - 低温スマートカット層転写

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imecの担当者が語る究極のトランジスタ構造「CFET」の製造プロセス第1回ロジックテクノロジのロードマップに登場した究極のトランジスタ「CFET」

VLSIシンポジウム 2023プレビュー第2回先端CMOSおよびメモリ技術分野の注目論文

imecのパターニング責任者が語った半導体プロセス微細化の課題と革新第3回デバイス構造のパターニングへの影響/環境へのパターニングの影響

imecのパターニング責任者が語った半導体プロセス微細化の課題と革新第2回 EUVリソグラフィにおけるフォトレジストやマスクといった材料の課題

imecのパターニング責任者が語った半導体プロセス微細化の課題と革新第1回高NA EUVリソグラフィ導入の準備と課題