凸版印刷は4月21日、IBMとの共同開発を進めてきた32nmおよび28nmプロセス対応のフォトマスク製造プロセスを構築したことを発表した。同プロセスは、米バーモント州エセックスジャンクションにあるIBMのフォトマスク工場で製造されたフォトマスクと互換性を持ち、IBMからの認定も取得している。

凸版とIBMは2005年よりフォトマスクの共同開発を45nmプロセスより開始、現在は光源とマスクの最適化(SMO:Source and Mask Optimization)に対応した次世代フォトマスクの開発なども手がけている。SMOは、露光装置の照明系とマスクパターンを相互に最適化して、既存の露光技術では難しいより微細なパターンの露光を実現する技術として期待されており、ArF液浸リソグラフィを22nmプロセス以降の微細プロセスに対応させることができる技術として期待されている。

凸版では、同共同開発で得た技術およびノウハウを用いることで、2011年に同技術を用いたフォトマスクの量産化を計画している。