ニコンはダブルパターニングを量産プロセスに適用することが可能な液浸ArF露光装置(スキャナ)「NSR-S620」を2009年第4四半期から提供することを発表した。

同製品は、従来装置で培った同社の液浸技術「ローカルフィルノズル」と「タンデムステージ」を進化、重ね合わせ精度とスループットを向上させたプラットフォームを搭載することにより、32nmプロセスにおける要求性能を実現しているという。