大日本印刷(DNP)は4月23日、米国のフォトマスクメーカーのPhotronicsと設立した中国の半導体用フォトマスク事業会社「Photronics DNP Mask Corporation Xiamen」が40nmおよび28nmプロセスに対応したフォトマスクの生産を開始することを発表した。

Photronics DNP Mask Corporation Xiamenは、中国で増加する半導体製造需要に対応することを目指して設立された半導体用フォトマスク製造・販売会社で、親会社となる2社は協力して今後、14nmプロセス向けフォトマスクの生産も行っていく計画としている。