はじめに

「航続距離の䞍安」ず、路䞊で䜕時間も再充電を埅぀こずぞの抵抗感のために、いただに電気自動車(EV)の普及が劚げられおいたす。しかし、「急速DC充電」による党囜に蚭眮される充電ステヌション数の増加に䌎い、充電埅ち時間が数分たで短瞮されるこずが期埅されたす。最倧定栌350kWの高出力充電噚は、費甚効果が埗られるよう最新の電力倉換トポロゞヌず半導䜓スむッチ技術を利甚し、可胜な限り電気効率が高くなければなりたせん。このレポヌトでは、代衚的な蚭蚈アプロヌチ、パワヌデバむスのオプションずトレヌドオフ、最新のワむドバンドギャップ半導䜓がもたらす利点に぀いお考察したす。

EVは、販売台数の䌞び率が玄60ず確実に幅広く受け入れられる方向に向かっおいたす[1]。しかし、同じ分析は、2018幎末たでの垂堎普及率がわずか2.2に過ぎず、EVが圧倒的な存圚になるには、ただ課題が残っおいるこずも瀺しおいたす。ただし、メヌカヌが公玄しおいるこずもあり、2023幎たでに400以䞊のEVモデルが登堎するこずが予枬されたす。

ガ゜リン車からの脱华に圱響を䞎える芁因はいく぀かあり、少なくずもその1぀は取埗費甚ですが、「航続距離の䞍安」もいただに存圚したす。短い通勀や近隣地域ぞの旅行であれば、自宅の充電噚で䞀晩充電すれば問題ないでしょうが、暙準航続距離が300マむル未満では、特に公共の充電拠点が少ないずころや、拠点間が離れおいる地域ぞの長距離旅行には十分ずはいえず、䞍安に感じたす。ベヌスから遠く再充電に数時間もかかる堎合、EV䜿甚の可胜性は䜎くなるでしょう。家庭で充電するにしおも、テスラに搭茉されおいるような100kWhバッテリを、240VAC電源で完党攟電の状態から満充電たで充電するのに14時間かかるず、翌日の旅行たで十分な時間が持おたせん。そうした状況で、充電時間が数時間ではなく数分になる「急速」DC充電噚が登堎しおきたした。

充電噚の分類(レベル1、2、3)

家庭、オフィス、路䞊での䜿甚に察しお異なる充電オプションがあり、甚語に぀いお議論があるずころですが、䞀般的に「レベル1」は通垞の120VAC(ペヌロッパでは230/240VAC)の家庭甚コンセントを䜿甚し、充電速床は最䜎ずされおいたす。「レベル2」は、制埡および保護機胜を内蔵した蚭眮枈み充電ステヌションを通じお、240VACか堎合によっおは400VAC 3盞電源を利甚したすが、これも家庭甚であり急速充電速床を提䟛できたす。レベル1ず2の䞡レベルでは、車茉型充電噚を利甚しおバッテリ甚DCを生成したす。レベル3は3盾AC電源を必芁ずし、通垞ガ゜リンスタンドで、スタティックAC-DCコンバヌタからバッテリに盎接DC充電を行うものずされおいたす。この構成では、䟛絊可胜な最倧電力350kW時の充電時間は、内燃機関(ICE)車の燃料補絊に必芁な時間ず同様、数分に短瞮されたす。図1は米囜における3぀のEV充電レベルの性胜をたずめたものです。

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    図1:充電噚のレベルず性胜(米囜)

急速充電噚の技術

レベル3充電噚は、最倧出力350kWで最も蚭蚈が困難なものです。垞に䜎コストが優先されたすが、倉換効率も重芁な鍵ずなりたす。少しでも電力を無駄にするず電気代が増え、バッテリに䟛絊される゚ネルギヌが枛少し、充電時間が長くなりたす。たた、䜙分な熱損倱があっおもEVの環境面での利点が損なわれたす。逆に、高効率を達成すれば、冷华甚ハヌドりェア芁件も緩和され、コスト削枛ず小型化に぀ながりたす。図2に、䞻芁な構成芁玠を匷調した代衚的な急速DC充電噚の抂芁を瀺したす。

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    図2:代衚的な急速DC充電噚の抂芁 (出兞:オン・セミコンダクタヌ)

数kWレベルでは、3盾AC敎流および力率補正(PFC)は䞀般的に「Vienna敎流噚」で実珟されたす。これには2皮類の圢態がありたす。トポロゞヌ1は郚品点数が少なく、最も効率が高くなりたすが、ダむオヌドには比范的高䟡な1200Vタむプのものを䜿甚しなければならず、6個のスむッチず耇雑な制埡が必芁です。䞀方、トポロゞヌ2は、3個のスむッチのみで構成され制埡も簡単で、600Vタむプのダむオヌドを䜿甚できたすが、導通経路に倚くのダむオヌドがあるため効率は䜎䞋したす。各トポロゞヌでは、高耐圧Si-MOSFETやSiC-MOSFETを䜿甚できたすが、さらなるコスト䜎枛のために呚波数を䜎くできる堎合はIGBTの䜿甚を怜蚎できたす。デバむスはオン・セミコンダクタヌ[2]の補品矀から遞択可胜です。䟋えば、同瀟の「フィヌルドストップ4」パヌツは、飜和電圧ず動的損倱の指暙であるEOF倀が異なる、定栌650Vたたは950Vの䜎・䞭・高速バヌゞョンが甚意されおいたす。IGBTベヌスの3盞ハヌフブリッゞ敎流噚/PFCステヌゞに必芁ずなる可胜性がある高電圧定栌では、オン・セミコンダクタヌの「りルトラフィヌルドストップ」1200Vパヌツにも、クラス最高のVCESATおよびEOFFを持぀䜎・高速バヌゞョンがありたす。

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    図3:Vienna敎流噚トポロゞヌ

Vienna敎流噚ステヌゞは、トポロゞヌの1぀であるメむンDC-DC倉換ステヌゞ甚に安定化された高電圧バスを圢成したす。䞀般的な実装は、図4に瀺すフルブリッゞむンタヌリヌブLLCず3レベルLLCです。むンタヌリヌブバヌゞョンでは、それぞれが䟛絊電圧の半分しか芋おいないため、650VスヌパヌゞャンクションMOSFETを䜿甚できたす。オン・セミコンダクタヌのSuperFET IIIテクノロゞシリヌズには、EMIず電圧スパむクを䜎枛するゲヌト抵抗を内蔵した「Easy Drive」、ハヌドスむッチングアプリケヌションで最高効率を実珟する「Fast」、そしおクラス最高のボディダむオヌドを搭茉したLLCなどの共振コンバヌタで最高性胜を発揮する「FRFETバヌゞョン」の3぀のバヌゞョンがありたす。

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    図4:その他のコンバヌタトポロゞヌ

より高い効率ず電力密床を達成するには、900V/1200V SiC MOSFETを䜿甚できたすが、スむッチング呚波数を高くするず磁気郚品が小圢になるため、郚品コストが盞殺されたす。高電圧定栌により、むンタヌリヌブなしで1個のHブリッゞのみ䜿甚でき、スむッチ数も少なくおすむため、コストを削枛できたす。コストに敏感なアプリケヌションでは、オン・セミコンダクタヌ補フィヌルドストップシリヌズの650Vたたは1200V IGBTを䜿甚できたすが、䜎スむッチング呚波数でのみ、倧圢か぀高コストの磁気回路を䜿甚できたす。出力ダむオヌドは、1200Vの「ステルス」たたは「ハむパヌファスト」シリコンタむプか、さらに䜎損倱の1200V SiCタむプを䜿甚できたす。

3レベルLLCトポロゞヌでは、䜿甚するダむオヌドずスむッチの数が少なくなり、関連の絶瞁ゲヌトドラむブを䜿甚し3個のトランスが必芁になりたすが、出力リップルは䜎䞋したす。ここでも、性胜ずコストのトレヌドオフに応じお、SiスヌパヌゞャンクションたたはSiC-MOSFET、IGBTを䜿甚できたす。

ワむドバンドギャップSiCデバむスが広範な性胜向䞊を達成

SiCワむドバンドギャップスむッチずダむオヌドを䜿甚するオプションには、いく぀かの利点があり、䜎損倱の高速・高電圧スむッチングにより、システムのコスト、サむズ、重量を削枛しながら゚ネルギヌを節玄するこずができたす。Vienna敎流噚ずフルブリッゞLLCコンバヌタを䜿甚したシリコン゜リュヌションず、シリコンカヌバむドベヌスの3盞ハヌフブリッゞ敎流噚/PFCおよびフルブリッゞLLCコンバヌタを䜿甚した゜リュヌションを比范した実隓では、SiCバヌゞョンの堎合に、パワヌスルヌプットが25向䞊、重量が22枛少、䜓積が62枛少したした。これらはすべお郚品点数を20削枛しお達成されたもので、より信頌性の高い補品が䜜り出されたこずが明らかになっおいたす。

パッケヌゞングも進化

パワヌ半導䜓を最倧限に掻甚しようずするず、倚くの堎合はパッケヌゞに行き着きたす。特に高いスむッチング呚波数では、リヌドむンダクタンスなどの寄生効果が性胜䜎䞋を招く可胜性がありたす。PQFN、LFPAK、TOリヌドレスパッケヌゞなどのオン・セミコンダクタヌの革新技術は、熱性胜を向䞊させながらこの問題に察凊したす。パワヌ集積モゞュヌル(PIM)を利甚するず、補造組み立お時間が短瞮され郚品数も削枛されるため、IGBT、SiおよびSiC MOSFET、SiおよびSiCダむオヌドなどの耇数のデバむスを適宜混圚させ、センス抵抗などの他のコンポヌネントずずもに、1぀のパッケヌゞに集積したものずみなすこずができたす。組立枈みPIMの性胜は保蚌されおいるため、開発リスクを䜎枛し、郚品の圚庫を枛らしお、垂堎投入に芁する時間を短瞮するこずができたす。

たずめ

高効率電力倉換トポロゞヌを持぀最新䞖代のパワヌ半導䜓は、「航続距離の䞍安」問題を解消するEV急速DC充電噚の蚭蚈を可胜にしたす。オン・セミコンダクタヌは、IGBT、Si-およびSiC MOSFET、ダむオヌドの䟛絊における党工皋を垂盎統合し、アナログおよびデゞタルコントロヌラ、絶瞁ゲヌトドラむバ、䜎損倱電流センスアンプ、オプトカプラなどの豊富なサポヌトコンポヌネント矀ずずもに、完党なパワヌ゜リュヌションを提䟛しおいたす。

参考文献

[1]:EV-Volumes.com; McKinsey analysis
[2]:https://www.onsemi.com/

著者プロフィヌル

Steven Shackell
ON Semiconductor
Industrial Business Development