米国政府はオランダ政府に中国へのDUV露光装置輸出禁止を継続要請

米国はトランプ政権当時、オランダ政府に対し、中国への最先端装置(具体的にはASMLのEUV露光装置)の輸出を停止するよう要請しており、中国への最先端製造装置の輸出を困難にしている。

一方、SMICは最近、7nmプロセスを用いた製品の生産に成功したことが話題になっており、こうした動きを受けて米国が再びオランダ政府を説得し、ArF液浸露光装置の輸出を制限することで、中国に対する制裁措置を強化する可能性があるとTrendForceは見ている。

また、米国の規制がDUV露光装置におよべば、中国におけるDUV、特にArF液浸露光装置が不足する可能性があり、7nm未満の先端プロセスの継続的な開発に対する影響を与えるだけでなく、40/28nmプロセスの量産にも必要であることから、中国の半導体産業の成長先着に支障をきたすことになるともTrendForceは指摘している。しかし一方で、中国での半導体の研究開発や製造装置開発が活発化していくことで、将来的には米国抜きのサプライチェーンを構築する活動が活発化していく可能性もあることに注意が必要であるともしている。