Micronが日本に5000億円を投資、EUV技術で1γ DRAMの開発・製造を推進

Micron Technologyは5月18日、日本の広島工場にEUV露光装置を導入し、次世代DRAMプロセスである1γでの製造を行う計画を明らかにした。

EUV露光装置は主に最先端半導体ロジックプロセスの製造に用いられてきたが、DRAMへの適用もSK hynixおよびSamsung Electronicsが2021年より開始。Micronもこれまで将来的な導入は検討しているものの、コストとの兼ね合いで判断するというスタンスをとってきたが、今回の発表で正式にEUVリソグラフィ技術でDRAMを製造することを明言したこととなる。

広島工場はこれまでも同社のDRAM開発ならびに生産で重要な位置を占めてきており、2022年には1γ DRAMの前世代となる1β DRAMの量産を開始している。同社では今後の数年間で日本政府の支援を前提に同工場における1γプロセス技術に対して最大5000億円を投資するとしており、急速に台頭している生成系AI(人工知能)アプリケーションに代表される新たな技術革新の波をエンド・ツー・エンドでサポートしていくとしている。

なお、Micronでは、1γ DRAMの立ち上げについては2025年以降との見通しを示しており、日本のみならず台湾でもEUVを用いた生産を行っていくとしている。