2025年のフォトマスク市場はプラス成長の見通し

電子ビーム(eBeam:EB)技術を活用した半導体製造アプローチに向けたフォーラム「eBeam Initiative」は9月23日(米国時間)、EBの市場調査である「第14回年次eBeam Initiative Luminaries Survey」が完了したこと、ならびに新メンバーとしてAGCが加入したことを発表した。

今回の調査にはフォトマスク、電子設計自動化(EDA)、チップ設計、装置、材料、製造、研究など、半導体エコシステム全体にわたる51社の有識者が参加。回答の64％が2025年のフォトマスク市場について前年比でプラス成長とする予測を示したという。

曲線マスクは2026年末までに活用開始の見込み

また、業界としての投資優先事項については、マスク描画が最優先とされ、マスク検査とリペア、光近接効果補正(OPC)/Inverse Lithography Technology(ILT)が僅差でそれに続いたとするほか、88％の回答者が今後3年にわたってマルチビームのマスクライタの購入が継続的に増加するとの予測を示したとする。

さらに、技術トレンドとしては、「EUVリソグラフィ」と「曲線マスク」の2つが取り上げられており、中でも高NA(NA=0.55)EUVリソグラフィがフォトマスクメーカーに与える影響として、現在、マスクのSub-Resolution Assist Features(SRAF)に必要な最小寸法は15nm以下であると考える回答者が前年の29％から40％まで増加。曲線マスクについては、回答者の77％が最先端のマスクショップは2026年末までには少なくとも限られた数の曲線マスクを大量生産(HVM)で処理できると回答したという。

なお、同調査のすべての結果については、9月22日～25日(米国時間)にて米カリフォルニア州モントレーで開催されているる「2025 SPIE Photomask Technology + EUV Lithography Conference」に合わせて開催されるeBeam Initiativeのイベントで発表され、専門家パネルによって議論される予定だという。