DNP、EUV向けフォトマスク上での2nm世代以降のパターンの解像に成功

大日本印刷(DNP)は12月12日、EUVリソグラフィに対応した2nmプロセス以降の微細ロジックプロセス向けフォトマスク上に求められる微細なパターンを解像することに成功したことを発表した。

• DNPが開発した2nm世代以降のEUVリソグラフィ向けフォトマスク (出所:DNP)

2nm世代以降のEUVリソ向けフォトマスクの実現には3nmプロセス世代に比べて、20％以上縮小されたパターンが要求されており、サイズのみならず形状も一般的な直線や矩形パターンだけでなく、複雑さを増した曲線パターンを含めた、すべての微細なパターンを同一マスク上で解像させる技術が必要となる。