米国商務省と米国国立半導体技術センター(NSTC)の運営者であるNatcastは、「CHIPS for America」の旗艦研究開発(R&D)施設をニューヨーク州アルバニー(IBMの半導体研究施設などのあるAlbany Nanotech Complex)およびカルフォルニア州サニーベール(シリコンバレーの中心都市)に設置すると発表した。
アルバ二―に8億ドルを投じてEUV技術研究施設も設置
さらに商務省/NIST(米国立標準技術研究所)は、米国における最先端のEUVリソグラフィ技術とそれに関連する研究開発を促進するため、NSTCの施設として「CHIPS for America Extreme Ultraviolet (EUV) Accelerator」を、アルバニーのAlbany Nanotech Complex内に新設することも決めた。CHIP and Science法(CHIPS法)に基づき、商務省はEUV施設に8億2500万ドルを投資し、NA=0.33のEUV露光装置を2025年までに、NA=0.55の高NA EUV露光装置を2026年にそれぞれ導入予定としている。
このEUV施設を設置する目的は、以下の3つの主要目標を達成することだとしている。
- 米国の技術リーダーシップの拡大
- 微細デバイス試作品作成の時間とコストの削減
- 半導体人材エコシステムの構築と維持