6インチの酸化ガリウムウェハのサンプル出荷が開始
ノベルクリスタルテクノジーは2月27日、次世代のパワー半導体材料として期待される酸化ガリウム(β-Ga2O3)の150mm(6インチ)ウェハのサンプル出荷を2026年3月より開始することを発表した。
β-Ga2O3は、SiCやGaNを超す広いバンドギャップエネルギーを有しているほか、高耐圧・低損失・小型化を同時に実現できる次世代パワー半導体材料として期待されているが、これまで提供されてきたウェハサイズは100mm(4インチ)までで、量産適用のためにはさらなる大口径化が求められていた。
2035年には8インチウェハの供給を計画
今回の6インチ化は、同社が長年培ってきた4インチでの実績を有するスリット状の部品(ダイ)を用いて融液を吸い上げ、ダイの上面形状に沿った単結晶を育成する技術「EFG(Edge-defined Film-fed Growth)法」をスケールアップさせたもの。既存技術の利点を生かしたスケールアップにより、高品質な大口径基板を安定して提供できるようになるとする。
また、この6インチウェハの提供により、これまで進んでいなかった6インチ環境でのエピタキシャル成膜技術やデバイス構造の最適化を推進することが可能になるともしており、2027年には6インチエピウェハのサンプル出荷を開始することを目指すとしているほか、2029年にはイリジウムなどの貴金属製のるつぼを使用せず、単結晶を育成する次世代技術「DG(Drop-fed Growth)法」を用いた6インチウェハの本格量産を開始する予定としている。
なお、今後も継続して大口径化を進めていくともしており、2035年には200mm(8インチ)のβ-Ga2O3ウェハの供給を開始することを目指すともしている。
