テクセンド、NILを用いた微細成型加工の受託サービスを2025年9月より開始

テクセンドフォトマスク(旧トッパンフォトマスク、2024年11月1日付で社名変更)は7月15日、新たにEVグループ(EVG)のナノインプリント製造装置を自社のマザー工場である朝霞サイトに導入し、AR/MRグラス向け光学部材をはじめとするナノインプリント製品の受託製造サービスを2025年9月より開始することを発表した。

ナノインプリントは、マスターモールドに微細なnmオーダーやμmオーダーのパターンを形成し、それを樹脂に押し当てて(紫外光で硬化させた後)、量産用のパターンとしたものを基板に押してそのパターンを基板上に形成する技術。もっとも微細なパターンであれば、半導体の回路にも適用できるとされるが、同社がターゲットとするのはそれよりも上の領域で、メタレンズやAR/MRグラム向けレンズ、レーザー部材、DNAシーケンサー(マイクロ流路)などとしており、こうしたアプリケーションを形成するための型となるモールドについても、半導体用フォトマスクのブランクスを用いた6インチ角石英モールドと8インチSiウェハベースの2種類のマスターモールドの提供が可能であり、顧客の要望に応じて柔軟に提供することができるとしている。

EVGのナノインプリント製造装置を導入し、受託製造サービスを開始

これまで同社はナノインプリント関連事業としてマスターモールドの提供を行ってきたが、今回EVGの完全統合型ナノインプリントリソグラフィ装置「ヘラクレスNIL200」を導入することで、ナノインプリント工程のプロセスまで対応、製品の供給まで可能とした。

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  EVGのナノインプリントリソグラフィ装置「HERCULES NIL 200mm」 (C)EV Group(出所:テクセンド)

これにより同社は、光学部材を必要とするメーカーは、自社で設計した部材が想定通りの光学特性を得られることのシミュレーションから、モールドの設計・製造、ナノインプリント製品の試作から少量産まで、すべての工程を国内で受けることが可能となると説明しており、今後、メタサーフェスなども含め、ナノインプリント関連の需要に対応し、事業の拡大を図っていきたいとしている。