半導体のクリーニングガスとして活用されてきた三フッ化窒素

三井化学は5月26日、同社100％子会社である下関三井化学で製造している半導体製造工程で用いられる「三フッ化窒素(NF3)」の事業からの撤退を決定したことを発表した。

NF3は、同社のICTソリューション事業本部 半導体・光学材料事業部が手掛けており、主に半導体・液晶製造装置のクリーニングガスとして用いられてきた。

海外勢との競争激化やコスト増を背景に撤退を決定

しかし、近年は主に海外勢との価格競争の激化や、原料およびユーティリティコストの増加、修繕費などのコスト増などに伴い、事業の採算が厳しい状況となっていたという。

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