半導体露光装置大手3社の決算まとめ - 高開口度EUV増やすASML、後工程に狙い定める国内2社

半導体露光機の堅調な成長が続いている。生成AI需要の急速な拡大が、EUV(波長13.5ナノメートル)からi線(波長365ナノメートル)まで幅広いプロセスの露光機需要を広げている。最大手の蘭ASMLはEUV露光機の次世代版である高開口度(NA=0.55)の出荷を着々と増やし、高付加価値路線を拡大している。

対して国内2社は戦略が似てきており、ニコンはフォトマスク不要のデジタル露光機で、キヤノンが得意とする後工程市場を攻める。一方でキヤノンはニコンが先行するArF(フッ化アルゴン)露光機を開発中だ。露光機事業で唯一苦戦するニコンだが、新製品と新規ユーザー開拓でV字回復するのか、注目される。