ベルギーimecが30年以上にわたり隔年開催してきた半導体洗浄・表面準備や超清浄化プロセスに関する国際会議「UCPSS 2023(16th Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces)」が9月12～14日にベルギーの古都ブルージュで開催されるが、このたび暫定プログラムが発表された。また、参加登録者の受付も開始された。

それによると、今回のセッション構成は以下が予定されており、ホットな話題が目白押しである。

  • 基調講演
  • ナノシートGAA FET形成のカギを握るSiGe選択エッチング
  • 高アスペクト比微細構造のパターン倒壊、ウェハ乾燥の課題
  • ウェハ上および純水・薬液中の金属汚染制御
  • パーティクル防止と除去
  • 枚葉スピン洗浄の動力学
  • インターコネクト・新たな多層配線材料のクリーン化プロセス
  • 持続可能な半導体製造のための洗浄技術(新たなテーマ)
  • ポスターセッションおよびLate Newsセッション(調整中)

ポスタ―やLate Newsを含む最終プログラムは7月中に発表される予定となっている。

基調講演の1人としてimecのHans Mertens氏が登壇。「Nanosheet-based Transistor Architectures for Advanced CMOS Scaling: Wet Etch and Gas Phase Etch Challenges in Confined Spaces (invited) (CMOS微細化のためのナノシートベースのトランジスタ構造:3次元閉鎖空間のウェットエッチおよびガスフェーズエッチの挑戦)」と題して、将来に向けたGAAトランジスタの3次元微細構造洗浄のホットな課題について講演する予定となっている。

日本からは、ソニー、SCREEN、東京エレクトロンはじめ、薬液・純水サプライヤ、研究機関などから多数の論文が採択されており、洗浄技術や汚染制御技術に強みを発揮し続ける日本勢の存在感を欧州でアピールできそうである。なお、開催前日の9月11日には、洗浄技術や超クリーン化技術の初心者(新規参入者)のためのチュートリアル(講義)も予定されている。