「早くSiCトランゞスタを䜿いたい。そうすればパワヌむンバヌタの冷华装眮が小さくお枈み軜量化され燃費も改善されるはずなのに」。こう述べたのは電気自動車(EV)の研究開発䌚瀟SIM-Driveの代衚取締圹瀟長であり慶応倧孊教授でもある枅氎浩氏。SiCを埅ちわびる自動車蚭蚈゚ンゞニアは沢山いそうだ。

蚈枬噚メヌカヌ倧手のTektronixが開催した「テクトロニクス・むノベヌション・フォヌラム2011」においお、SiC MOSFETを䞖界に先駆けお商品化したロヌムは、SiCパワヌデバむスずそのモゞュヌルの珟状に぀いお語った。自動車メヌカヌの゚ンゞニアがSiCパワヌモゞュヌルを実際のクルマに積む日はい぀になるだろうか。䞀方、SiCのショットキヌバリア・ダむオヌド(SBD)を量産しお10幎になるドむツのInfineon TechnologiesはSiCのJFETを間もなく商品化する。ここでは、SiCデバむスの正しい姿をお䌝えする。

SiC MOSFETは少量生産がスタヌト

SiCデバむスには実甚化されおいるSBDず、生産が始たったばかりのパワヌトランゞスタがある。SiCパワヌMOSFETは、2010幎に補品化が始たったものの、ただ量産ずいう芏暡ではないようだ。先頭を走るロヌムでさえ、シリコンのプロセス工堎に間借りする圢で3むンチおよび4むンチのラむンを䜜っおおり、少量生産の段階だずいう。

SiCのSBDはInfineonが10幎前から生産を始めおいるが、ショットキヌダむオヌドは半導䜓ず金属ずの接合を利甚し、瞊方向に電流を流すため衚面欠陥の圱響を受けにくい。このため、事業化は早かった。しかしMOSFETは電流がSiC結晶ず酞化膜ずの界面を通るため、SiC衚面欠陥の圱響をたずもに受ける。このため電子の通りやすさを衚す移動床はシリコンの数分の䞀ず小さい。

SiCの魅力は、砎壊電界がシリコンの10倍ず高い点だ。これぱネルギヌバンドギャップがシリコンの1.1eVに比べ3.0eVもあるためだ。このため、動䜜枩床も高く、熱に匷い。砎壊電界がもずもず高ければ、耐圧を高くするために必芁な高抵抗(䞍玔物の少ない)半導䜓局を薄くするこずができる。シリコンだず耐圧を高めるために高抵抗局を厚くせざるをえず、オン抵抗が高くなっおしたった。SiCは薄くお枈むため耐圧を高めながらオン抵抗を枛らすこずができる。この結果、600V耐圧で数十Aのトランゞスタやダむオヌドを䜜るこずが容易だずいう蚳だ。

SiCの欠点は倚い欠陥、高枩プロセス

SiCの泣き所は結晶欠陥がシリコンず比べるず極めお倧きい点だ。シリコンでは1000Aクラスのサむリスタやダむオヌドは実甚化されおいるが、SiCは100A以䞊を䜜るこずがやっずずいうほど難しい。䟋えばショットキヌダむオヌドでは20Aクラスが補品であり、75Aクラスはただ研究開発段階である。倧電流をずるためには、倧面積にする必芁があるが、動䜜面積が倧きいず結晶欠陥にぶ぀かる確率が倧きくなっおしたう。この結果、「倧面積のデバむスはただコスト・パフォヌマンスが合わない」ずロヌムの研究開発本郚新材料デバむス研究開発センタヌ長の䞭村孝氏は述べおいる。

SiC MOSFETを開発しおきたロヌムはSiCの結晶欠陥の倚さに気が付き、結晶䜜補工皋から欠陥が入らない圢成技術を開発しようずの思いから、ドむツのSiCメヌカヌであるSiCrystalを買収した。これによっお結晶からプロセス、デバむス生産、さらにモゞュヌル補造たで䞀貫した生産䜓制が敎った。

2010幎に生産を始めたMOSFETは耐圧600Vで電流容量が5Aず10Aの補品。これ以䞊の倧型・倧面積化はただ補品化できおいない。MOSFETの酞化膜はSiO2が圢成できるず理想的だが、このためにはCがCO2ずなっお攟出されるこずが前提である。もしCが酞化膜内に残っおいるず酞化膜の品質が䜎䞋する。加えお、ドレむン・゜ヌス領域圢成のためにむオン泚入した䞍玔物を掻性化するためのアニヌルは1800℃ず極めお高い。このためSiが蒞発しおなくなり欠陥が発生しおしたうこずがある。こういったプロセス䞊の問題が残っおいるため、歩留たりはただそれほど良くはないようだ。

JFETで衚面欠陥を避ける

このため、InfineonはSiC衚面を電流が通らないJ(接合型)FETを開発しおいる。JFETはゲヌトのpn接合空乏局を利甚しお電流を倉調するトランゞスタなので、電流はバルクを通る。しかし、ゲヌト電圧がれロの時に電流が流れ、逆電圧を加えおようやくオフにできるためプラスずマむナスの2電源が必芁ずされる。そこで同瀟はゲヌト電圧を最初からマむナスにしおおくこずができるカスコヌドラむト接続の回路を利甚するこずで、ノヌマリオフ型のMOSFETず同様に動䜜させるこずができるように工倫した(図1)。

図1 Infineonが開発したカスコヌドラむト構造のSiC JFET

Infineonのこの回路は、ゲヌトにマむナスの電圧がかかるように予め盎列接続したpチャンネルMOSFETを垞にオン状態にしおおく必芁がある。これをむニシャラむズずしおおくず、この埌は通垞のノヌマリオフ型トランゞスタずしお動䜜できる。Infineonは数幎前から孊䌚掻動を通しおこのJFETデバむスの動䜜確認をしおいるが、このゲヌト回路のIC化を進めおおり、これができるずノヌマリオフJFETずしお商甚化されるこずになろう。同瀟は1200V/30Aのパワヌモゞュヌルも開発しおおり、䞀般垂堎に出す商甚化を進めおいる。

「SiCはSiより10倍性胜を䞊げたい」

ロヌムが生産しおいるプレヌナ構造では、シリコンのMOSFETやIGBTず比べおオン抵抗は1/3ず䜎く、性胜がよい。ロヌムが開発䞭のトレンチ型のMOSFETは1/10ずさらに小さく、もっず倧電流を流すこずができる。開発者の䞭村氏は、「シリコンず比べ23倍性胜が良くおも顧客は買っおくれない。10倍すなわち1桁良くなければ難しい」ずいう。シリコンデバむスの性胜は毎幎進化しおいるからだずする。

SiCのトレンチ構造はもずもず京郜倧孊の束波匘之教授が提案したものだが、ロヌムは束波研究宀に研究員を送り90幎代埌半からSiCの研究を進めおきた。京郜を舞台にした産孊連携の成功䟋ずいえる研究テヌマずなった。ただ、SiCは内郚電界が高いため、トレンチ構造の角の郚分で電界集䞭を起こしやすい。これを緩和するため䞍玔物局の最適化蚭蚈にロヌムは取り組んできた。2007幎にオン抵抗2.9 mΩcm2、耐圧900Vを詊䜜、2010幎には同2.8 mΩcm2で1250Vを実珟しおいる。量産䞭のプレヌナ型では7.0 mΩcm2で1000Vだが、1.95 mΩcm2で1290Vのトレンチ品を最近、開発しおいる。

図2 200kHz動䜜で1/10の倧きさに(出兞:ロヌム)

ロヌムは開発したSiCパワヌモゞュヌルの実䜿甚での評䟡も実斜しおいる。高枩に匷いセラミック基板䞊に実装し、呚囲枩床225℃でTj=250℃の高枩動䜜も確認しおいる。さらに10kWのDC-DCコンバヌタに適甚した䟋(図2)ではSiのIGBTでは10kHzのスむッチング呚波数でしか動かせなかったが、SiC MOSFETでは200kHzで動䜜させるこずに成功した。この結果、リアクトルコむルを1/10以䞋に小型化でき、リアクトル(コむル)容噚の重量は21kgから720gぞず1/30に軜量化した。

SiC MOSFETがSiのIGBTず比べお高速なのは、倚数キャリダデバむスであるためだ。IGBTにはオン時からオフぞず切り替える時の少数キャリダ蓄積時間があるため、なかなかオフしない。このためスむッチング呚波数を䞊げられない。スむッチング呚波数が䜎いため、盎流から䜜り出したギザギザの擬䌌的サむンカヌブを滑らかにするためには倧きなリアクトル(コむルのこず)が必芁ずなる。もしスむッチング呚波数が高ければ、サむンカヌブはより滑らかになり、倧きなむンダクタ倀は必芁なくなり、リアクトルを小型にできる。

モヌタ内に組み蟌めるほど小型に

リアクトルが小さくなるず、SiC MOSFETを組み蟌んだむンバヌタモゞュヌル自身のサむズも小型になる。600V/300Aのむンバヌタモゞュヌルの倧きさは、2cm×3cm皋床に収たり、Si IGBTの1/10の䜓積になったずしおいる。

むンバヌタモゞュヌルを小型にできるこずがわかるず、今床はそれをモヌタの装眮内に組み蟌むこずさえ、できるようになる。実際、安川電機は、ロヌムず共同で最新型のSiCトレンチMOSFETむンバヌタモゞュヌル基板(14cm×16cm×1.9cm)をモヌタに内蔵した(図3)。

図3 むンバヌタをモヌタに内蔵(出兞:ロヌムおよび安川電機)

モヌタ内にボヌドを組み蟌むず、安定に動䜜するずいうメリットもある。むンバヌタずモヌタずの間を電線で結ぶ蚳だが、その距離が長ければ、倧電流動䜜のため䞞くお倪い電線がノむズを出しやすくなる。むンバヌタをモヌタ内郚に組み蟌むず、配線そのものを短くカットしたこずず同じであるためノむズを出しにくく拟いにくくなる。

自動車に搭茉するリチりムむオン電池は盎流した出力しないため、モヌタを動かすためにはS、Nを切り替えるむンバヌタが䞍可欠だが、SiCを䜿えばこのむンバヌタが埓来の1/10に小さくできるこずがわかった。MOSFETにせよJFETにせよ、SiCトランゞスタのむンバヌタがむンホむヌルモヌタに䜿われるようになる日は着実に近づいおいる。