Micron Technologyのグローバルオペレーション担当エグゼクティブバイスプレジデントであるManish Bhatia氏が、2024年に台湾のDRAM量産ファブにてEUV露光装置を導入する計画をプレスイベントにて語ったと、複数の台湾メディアが報じている。

それによると、導入予定のファブは、台湾中部科学工業園区にあるMicron Taiwanの「A3工場」とみられるという。また、MicronのDRAM戦略としては、日本の広島工場が量産に向けた試作ラインの位置づけであるため、台湾への導入の前に広島工場にEUV露光装置が導入される可能性があるが、同社は日本での新工場建設に関する計画などは発表していない。

今回の報道について、一部の日本メディアでは、Bhatia氏が「日本の経済産業省や広島県から工場建設に関してどのようなサポートが得られ、工場運営に継続的なサポートが可能なのかについて話し合っていく」と述べたとしているが、もし、従来のMicronの掲げた日本で先行生産を行い、台湾で量産を行う、という流れであれば、新工場を建設するしないは別として、日本でのEUVによる生産は、日本企業ではなくMicronということになる可能性がでてくる。

なおMicronは、今後10年間にわたって半導体メモリの研究開発と製造能力の増強に1500億ドル以上を投資することを10月20日(米国時間)に発表したが、その際は具体的な投資計については、日本や台湾、シンガポール、米国などの政府との間で話し合いと進めている段階で、まだ固まっていないとしていた。