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「EUV」のニュースまとめ

極端紫外線と呼ばれる波長13.5nmの光を用いて、1桁nmの微細なプロセスを採用した半導体を形成する露光技術である「EUV」を活用した最先端の半導体実現に向けた研究活動や企業動向についてお届けします。

2020年07月28日(火)

テクノロジー

AGC、EUV向けフォトマスクブランクスの供給体制を強化

2020/07/28 21:09

2020年07月27日(月)

テクノロジー

Intel、7nmでも歩留まりの低迷で外部ファウンドリの活用の可能性も

2020/07/27 16:13

2020年07月24日(金)

2020年07月17日(金)

テクノロジー

EUV露光装置の販売が好調なASML、2020年第2四半期業績は増収増益

2020/07/17 17:42

2020年07月15日(水)

テクノロジー

エッジAIの時代に重要性が増すムーアの法則、超微細加工の実現を目指すASML

2020/07/15 08:00 レポート

2020年05月22日(金)

テクノロジー

Samsung、5nm採用のファウンドリ専用ラインを平澤事業所に建設開始

2020/05/22 16:01

2020年04月02日(木)

テクノロジー

TSMC、3nm向け製造装置の搬入を6月から10月に延期 - 台湾メディア報道

2020/04/02 07:30

2020年03月31日(火)

テクノロジー

2020年の半導体レジスト市場は16億ドル規模に - EUV向けの成長率は50%超に

2020/03/31 14:49

2020年03月26日(木)

テクノロジー

Samsung、EUVを用いたDRAMの製造を開始 - 本格量産への適用は2021年を予定

2020/03/26 15:13

2020年03月12日(木)

テクノロジー

TSMC、5nmプロセスでの量産を4月より開始 - 台湾メディア報道

2020/03/12 13:17

2020年03月06日(金)

テクノロジー

imecとASML、単一露光のEUVで3nmプロセス対応24nmピッチL/Sの形成に成功

2020/03/06 20:02

2020年03月03日(火)

テクノロジー

Lam Research、ASML/imecとEUV向け次世代ドライレジスト技術開発を推進

2020/03/03 14:46

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