JX金属、ひたちなか新工場の半導体用スパッタリングターゲット増産に向けた投資を決定

スパッタリングターゲットの生産能力増強に向けて230億円の投資を決定

JX金属は3月10日、半導体需要の高まりを受けて半導体用スパッタリングターゲットの生産能力増強に向けて、同社ひたちなか新工場に約230億円を投じる計画を発表した。

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同社の半導体先端材料生産の中核拠点を目指して建設が進められてきたひたちなか新工場は2026年3月末より半導体用スパッタリングターゲットの一部生産設備の試運転開始が予定されているが、現在、AIデータセンターを中心とした先端プロセスベースの高性能ロジックやHBMを中心とする先端メモリの需要の高まりを背景に、同社の半導体用スパッタリングターゲットの需要も拡大することが見込まれる状況となっており、早い段階での生産能力の強化が必要という判断のもと、今回の投資が決定されたという。

稼働すれば生産能力は2023年度比で1.6倍に拡大

これにより、ひたちなか新工場に新たな製造設備一式が投入されることとなり、同社の半導体用スパッタリングターゲットの生産能力は2023年度比で約1.6倍に増強されることとなるという。

なお、新たな設備の導入に際しては、既存の半導体用スパッタリングターゲット生産の中核拠点である磯原工場で培った技術・ノウハウを活用することで、より効率的な生産ラインの構築を行うとしており、2027年度下期より順次稼働させる予定だという。