東京応化、EUV向けフォトレジストの強化に向けて英IMへの戦略的投資を実施

東京応化がEUV向けレジストの事業強化に向けてIMに出資

東京応化工業は2月24日、次世代EUVリソグラフィ向けフォトレジストの開発などを行っている電子材料技術企業の英Irresistible Materials(イレジスティブル・マテリアルズ:IM)と、EUVリソ向けフォトレジストのイノベーション加速を目的とした戦略的投資および共同開発パートーナーシップを締結したことを発表した。

今回の出資はIMが有する革新的かつ特許取得済みのEUVレジストプラットフォーム「Multi-Trigger Resist(MTR)」が、低NAに加えて高NAのEUVリソグラフィの実現に向けて、既存の「化学増幅型レジスト(CAR)」や「金属酸化物レジスト(MOR)」を補完することができる技術であることを評価したものだと東京応化では説明している。

具体的には、従来のポリマー系レジストと比べて最大10分の1の分子サイズで設計された、特許取得済みの低分子型レジストプラットフォームであり、その化学機構は、ブラーリングの抑制とラインエッジラフネス(LER)およびライン幅ラフネス(LWR)の低減と高感度化を同時に達成することを目標に開発が進められており、IDMやファウンドリが求める性能要件を満たす高いポテンシャルが示されているほか、EUVを用いた半導体製造製造におけるコスト削減も期待できるためだという。

共同開発パートナーシップによりMTRの開発を加速

今回得た資金をIMでは人財の拡充や設備・材料・施設などのインフラの強化に活用するほか、ASMLやimecをはじめとする先端パターニングエコシステムにおける主要プレイヤーとの連携強化を推進し、EUVリソグラフィにおける主要な課題解決に向けた新たなイノベーションの創出を継続していくとする一方、東京応化では、自社のレジストポートフォリオの補完を目的にIMのMTRプラットフォームの活用を推進するとともに、高いフォトレジスト製造能力ならびに品質管理プロセスを生かす形でMTRの量産スケールアップの推進も図っていくとしている。また、共同開発パートナーシップの一環として両社が協力する形でMTRの開発ロードマップの加速および事業化の推進に注力し、業界全体での顧客導入の拡大を目指すともしている。