オキサイド、半導体検査向けDUVレーザに波長193nm品を追加

半導体検査向けに2つのレーザ製品を発表

オキサイドは12月16日、同社の半導体検査向け主力製品である深紫外(DUV)ピコ秒パルスレーザ「QCW Kalamaシリーズ」として、新たに266nmの高出力(標準8W、最大12W)モデル、および新開発の波長193nmレーザを2026年より受注開始する予定であることを発表した。

• 

  266nm高出力モデル(標準8W、最大12W)と波長193nmモデルの外観 (出所:オキサイド)

266nm高出力モデルは、従来の3W出力から標準8W、最大12Wへと出力を高めたモデルで、従来機と同等の筐体サイズを維持しながら、基本波レーザの高出力化と独自の高品質CLBO結晶により高出力化を実現。これにより、半導体ウェハの微細な欠陥検出能力の向上が見込まれるとのことで、検査時間の短縮を図ることが可能となるとする。

波長193nmへの対応でArFリソ用フォトマスク検査にも対応

一方の波長193nmレーザは、波長193nm、繰り返し50MHz、平均出力0.2W超を実現した全固体DUVピコ秒レーザで、同社が長年培ってきた波長変換技術と高品質CLBO結晶を駆使することで、高出力かつ短波長化を実現したという。波長が193nmとなったことで、従来のウェハ検査に加え、ArFリソグラフィ用フォトマスク検査、医療分野、光学素子検査用光源としての応用も可能だという。

なお、高出力モデルの開発成果については、2026年1月20日から22日にかけて米国サンフランシスコにて開催される光工学・レーザ分野の世界最大級の展示会「PhotonicsWest 2026」にて発表される予定だという。