富士フイルム、イメージセンサー向けKrF露光に対応した機能性材料を開発

イメージセンサー向けKrF露光対応の機能性材料を開発

富士フイルムは12月9日、KrFを用いた露光に対応したイメージセンサー用カラーフィルター材料を同社の広範囲な波長の電磁波(光)をコントロールする機能性材料群「Wave Control Mosaic(ウエイブ コントロール モザイク)」として発売したことを発表した。

イメージセンサーは、より高精細化、高画質化が求められており、そのためにはセンサーの画素部分の微細化が必要となるが、普通に画素サイズを小さくすると取り込める光の量が減少し、感度が低下してしまうという課題があった。

独自の材料開発技術を活用した添加剤と染料を開発

この解決のために従来のi線での露光ではなく、さらに微細な波長であるKrFを用いた露光での加工が求められるようになっている。同カラーフィルター材料は、そうしたKrF露光に対応した材料で、同社が長年培ってきた銀塩写真の研究開発に基づく機能性分子の設計技術や有機合成技術を活用することでKrF露光に最適化した添加剤、ならびに耐熱性と耐光性に優れた染料を組み合わせたもの。独自の処方技術により、従来の顔料に加えて、この新開発の染料を原材料に用いることで光の透過率を増加させ、微細化による光量低下を補うことができるカラーフィルター材料としたという。

なお、近年の環境や人体への影響に対する関心の度合いが高まるPFASの使用にも配慮し、PFASフリーを実現したという。同社では、今後のWave Control Mosaic製品やフォトレジスト材料などにも適用することで、半導体材料のPFASフリー化を進めていくとしている。