1時間あたり300枚を超す露光が可能なArFスキャナ

ニコンは9月25日、重ね合わせ精度をMMO(同一機種間)で4nm以下としながらも、1時間あたり300枚を超すスループットを提供するArF(ドライ)露光装置(スキャナ)「NSR-S333F」の受注を10月より開始することを発表した。

  • ArFスキャナ「NSR-S333F」

    1時間あたり300枚以上の処理が可能なArFスキャナ「NSR-S333F」 (出所:ニコン)

同装置は、同社の最上位機種ArF液浸スキャナ「NSR-S636E」のプラットフォームを採用することでウェハステージおよびレチクルステージの速度を向上させ1時間あたり300枚以上(96shotsの場合)のスループットを実現したとする。

また、実績のある従来機種ArFスキャナ「NSR-S322F」の光学系を継承し、NSR-S636Eのプラットフォームを活用することで、ウェハアライメント計測、レチクルステージ計測、オートフォーカスなどの性能を向上。ArFスキャナとして重ね合わせ精度をMMOで4nm以下としたとする。

さまざまなデバイス製造ニーズに対応可能なArF

半導体の露光工程ではEUV露光装置が注目されているが、配線層はトランジスタ素子に近いクリティカルレイヤはそういった超微細加工が求められるが、上層に行くとプロセスルールが緩くなるため、EUVではなくArFなどの波長を用いた露光装置も活用される。また、常にすべてのデバイスが先端プロセスを必要としているわけではないということもあり、同社でもロジック、メモリ、イメージセンサーなどの幅広いデバイスの微細パターン製造ニーズに応えることができる機種と説明している。

なお、受注活動は2025年10月より開始されるが、実際の上市は2026年後半となる予定だという。