オルツは2月14日、Duc-Minh Nguyen教授(Vice Dean, School of Electrical and Electronic Engineering, Hanoi University of Science and Technology)との共同研究を開始したことを発表した。
この研究を通じて、LLM(Large Language Models:大規模言語モデル)を活用して産業特化型GPUの設計プロセスを変革し、従来のGPU設計コストの約80%、年間最大226億ドル削減することを目指すとのことだ。
LLM主導で変わるGPU設計
近年のAIワークロードの多様化に伴って、従来の汎用GPUでは最適な演算処理が難しい例が増えている。特に、HPC(高性能計算)、自動運転、医療AI、エッジデバイスなどの分野では用途特化型のカスタムチップ設計が求められているという。しかし現在のGPU設計プロセスは複雑でコストが高く、特定用途向けのチップ開発には課題と障壁が残される。
そこでオルツらは今回のプロジェクトにおいて、LLMを活用した「計算アーキテクチャ生成モデル(Computational Architecture Generation Model)」を構築し、課題の解決を目指すとしている。
具体的には、各産業のワークロードを分析してLLMが最適なアーキテクチャを生成するほか、設計の初期段階から論理設計・回路配置・試作まで自動化、高効率なハードウェア / ソフトウェア協調設計(Co-Design)などに取り組む。