Imecが3nm技術ノード(iN3)以降のBEOLで採用を検討している技術のロードマップ。左から、従来通りのデュアルダマシン構造(ArF液浸による多重露光とEUV露光の使い分け)、スーパービア(配線層を飛び越えたビア)、RC向上のためバリアレスAG(エアギャップ)を採用したセミダマシン、配線に新たな機能付加のための多層配線中への薄膜トランジスタ埋め込み (出所:Imec)
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インテルや東芝といった半導体メーカーや、CPU、メモリなどの半導体デバイスに関わる情報、市場トレンドといったホットなニュースを毎日更新。注目のIoTや自動運転など、半導体の適用範囲の拡大とともに成長が続く半導体業界の話題を詳細な説明付きで紹介します。