山形にSiCエピウェハの生産拠点を新設
レゾナックは9月16日、同社子会社で磁気記録用ハードディスクメディアを手掛けるレゾナック・ハードディスクの山形工場(山形県東根市)にて、SiCエピタキシャルウェハ(SiCエピウェハ)の生産建屋竣工式を9月12日に執り行ったことを発表した。
同生産建屋は、2023年6月16日付で経済産業省から認定を受けた経済安全保障推進に基づく特定重要物資である半導体部素材(SiCウェハ)の供給確保計画の実現に向けた取り組みの一環として、パワー半導体向けSiCエピウェハの生産体制強化に向けて2024年9月より建設を進めてきたもの。
生産開始は2026年を予定
竣工式には、地元である東根市の鈴木敬一副市長や山形県をはじめとする関係者のほか、レゾナックの業務執行役 デバイスソリューション事業部 事業部長である武田真人氏らも参加して、建屋の完成を祝うとともに、今後の安全な操業の祈願などが行われたという。
なお、同建屋の建築面積は5832m2で、今後、各種設備の搬入が進められ、2026年からの稼働開始が予定されているという。

