露光装置メーカーの蘭ASML Holdingと光源メーカーの米Cymerは7月13日(米国時間)、Cymerの開発したLaser-Produced Plasma(レーザ生成プラズマ:LPP)方式のEUVリソグラフィ用光源がASML対し出荷されたことを発表した。両社間では、複数台の光源納入契約が締結されているほか、次世代EUV光源に対するサポート契約などもすでに交わされているという。
Cymerによると、同光源はEUVリソグラフィとして75Wの出力を達成しており、今四半期中に100W出力の実現も予定している。これにより、スループットは300mmウェハで毎時60枚の処理が可能となる
一方ASMLでは、1年以内の装置出荷を計画しており、2010年には体制が整うとしているほか、改良を進めることで、毎時100枚のウェハ処理も可能になるとしている。
なお、ASMLでは、EUVリソグラフィの実用化により、10nmクラスおよびそれ以下の微細配線の作製が可能となり、Mooreの法則の延命が可能になるとしている。
