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科学大と東京応化、ナノインプリントによるシリコンフォトニクス向け製造プロセスを開発

今回開発されたシリコンフォトニクスプロセス向けに開発された光硬化性樹脂。各成分の比率はSF_6-C₄F₈混合ガスによるドライエッチング条件に最適化されているという (出所:東京科学大学/東京応化工業)

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