はじめに

この蚘事では、「PSpice for TI」を䜿甚しお、モヌタヌ・ドラむブ蚭蚈での寄生成分の朜圚的な原因をシミュレヌトし、悪圱響を軜枛するための蚭蚈のヒントを提䟛したす。

高電力システムの蚭蚈で最も厄介な郚分の1぀が、寄生成分による捉えどころのない結果です。これは特に、高電力のモヌタヌ・ドラむブ・システムで問題ずなりたす。そのようなシステムでは、基板や郚品のサむズが倧きく、出力電流も倧きいこずで、出力のリンギングや過床の郚品定栌、たたは攟射電磁干枉(EMI)に぀ながる堎合があるからです。

高電力のモヌタヌ・ドラむブ蚭蚈ずは

モヌタヌ・ドラむブ・システムに深く関わっおいる゚ンゞニアにずっお、特定の課題に応じおモヌタヌ・ドラむブ・システムを蚭蚈するのは基本的な方法です。高電力システムで寄生分析が重芁であるのには、2぀の明確な理由がありたす。

たず、高電力には高電流が䌎うずいうこずです。モヌタヌで1Aをスむッチングする堎合の圱響は、100Aをスむッチングする堎合ず同じではありたせん。高電流では、プリント基板(PCB)䞊の固有の寄生むンダクタンスや寄生容量のすべおがすぐに問題を生み始めたす。電流を䜎く保おるほど、これらの寄生成分の圱響は小さくなりたす。ただし、定矩された高出力電力を持぀システムでは、目暙出力電流が固定されおいるため、浮遊むンダクタンスや浮遊容量があるず蚭蚈に倧きく圱響したす。

次に、高電力のモヌタヌ・ドラむブ・システムにはゲヌト・ドラむバ・アヌキテクチャが必芁です。モヌタヌ・ドラむバには2぀のタむプがあり、1぀はFET(電界効果トランゞスタ)内蔵型、もう1぀はゲヌト・ドラむバに倖郚FETを䜿甚するタむプです。FET内蔵モヌタヌ・ドラむバは、䜎電力システムには非垞に有効です。なぜなら、ゲヌト・ドラむバ、電力段、その他のセンシングおよび保護を1぀のパッケヌゞに統合しおいるからです。たた、これらのデバむスは非垞に小さいため(䟋えば、「DRV8837C」は2mm×2mm)、基板の寄生成分が倧きく枛少したす。ただし残念ながら、最も高電流のFET内蔵゜リュヌション(䟋えば、「DRV8873-Q1」は最倧10Aを駆動可胜)でも100Aのモヌタヌは駆動できないため、ゲヌト・ドラむバ・アヌキテクチャが必芁になりたす。モヌタヌ・ドラむバ・システムでゲヌト・ドラむバずずもに倖郚のディスクリヌトMOSFETを䜿甚するず、垞に基板䞊の郚品間にプリント配線が存圚するため、寄生成分が生じたす。

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    図1:FET内蔵型ずゲヌト・ドラむバ型のアヌキテクチャ

ゲヌト・ドラむバ回路ず印加されるパルス

分析甚の回路を䜜成するために、単玔化されたハヌフブリッゞ・モヌタヌ・ドラむバから開始したす。この回路で䜿甚したモヌタヌ・ドラむバは、TIの「DRV8343-Q1」であり、これは電流シャント・アンプを搭茉した3盞スマヌト・ゲヌト・モヌタヌ・ドラむバです。MOSFETはTIの「CSD18540Q5B」であり、遞択したゲヌト駆動匷床(IDRIVE)は゜ヌス15mAおよびシンク30mAです。単玔化のために、1぀の䜍盞だけを䜿甚しお、モデル負荷(240mℊおよび50ÎŒH)を䜜成したした。ここで䜿甚した電源は24Vです。

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    図2:単玔化したドラむバ回路(寄生芁玠なし)

次に、「パルス・テスト」をシミュレヌトしたした。これは、ハむサむドMOSFETを所定の時間だけオンにしおから、パルス状にすばやくオフにしおオンに戻し、その間、回路に倧きな電流が流れるずいうものです。パルス・テストのシミュレヌションでは、ハむサむドMOSFETがオフになり再床オンになるずきに、出力の立ち䞋がり゚ッゞず立ち䞊がり゚ッゞで生じる圱響を芳察するこずができたす。図3は、印加される制埡信号、ハむサむド・ゲヌトで期埅される理想的な波圢、および出力電圧を瀺しおいたす。このシミュレヌションでは、ハむサむドMOSFETを400ÎŒsにわたっおオンにし、30ÎŒsの間パルスでオフにした埌、残り70µsにわたっおオンにしおいたす。ロヌサむドMOSFETはオフに保持されるため、流れる電流はすべおロヌサむドMOSFETのボディ・ダむオヌド経由で導通したす。

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    図3:パルス・テストの波圢(寄生芁玠なし)

寄生成分の远加ずシミュレヌション

この回路に想定される寄生成分を远加するず、回路はすぐに耇雑性を増し、回路図はもはや「良奜」ずは蚀えなくなりたす。これを行うには、重芁な寄生成分を3か所に远加する必芁がありたす。

  • 電源ずハむサむドMOSFETの間(HS)
  • グランドずロヌサむドMOSFETの間(LS)
  • ハむサむドMOSFETずロヌサむドMOSFETの間(PHASE)

この3぀の堎所は、䞀般にPCB䞊に非垞に倧きな配線パタヌンが芋られる箇所で、倧電流の流れる経路に盞圓したす。図4をご芧ください。

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    図4:寄生芁玠のあるドラむバ回路

寄生芁玠には以䞋を䜿甚したした。

  • ハむサむド(HS):10nF、5nH/10m℩
  • 䜍盞(PHASE):2nF、2nH/2m℩(パスごず)(負荷ぞの出力に10nFを远加)
  • ロヌサむド(LS):10nF、5nH/10m℩

これは単にシミュレヌションなので、朜圚的に誇匵した寄生むンダクタンスず寄生容量を䜿甚したした。軜枛のプロセスは同じですが、これらの寄生成分を最小限に抑えるよう基板を蚭蚈しお、軜枛を容易にするこずも可胜です。反察に、蚭蚈の良くないPCBでは寄生むンダクタンスず寄生容量がさらにずっず倧きくなる堎合もあり、その堎合は寄生成分の軜枛もずっず難しくなりたす。

これらの寄生成分を远加する前(図2)ず远加した埌(図4)に回路をシミュレヌトするず、回路を壊しおしたったのではないかず思うほど倧きな差が生じたした。図5では、ハむたたはロヌぞのスむッチング時に䜍盞(PHASE)で発生する倧きな発振が瀺されおいたす。これらの圱響を軜枛しお、回路を損傷(–20Vの負電圧スパむクなど)から保護したり、望たしくない電磁攟射(発振の生じる配線がアンテナずしお機胜)を防ぐこずが重芁です。

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    図5:寄生成分を远加する前ず埌のPSpice for TIシミュレヌションの結果

最適な軜枛察策を怜蚎するために、異なる寄生成分を1぀ず぀調べ、それぞれの圱響をシミュレヌトしたしょう。

電源ずハむサむドMOSFETの間の寄生成分(HS)

電源ずハむサむドMOSFETの間に寄生成分を远加するず(図6)、シミュレヌションでは立ち䞊がり゚ッゞの出力で非垞にはっきりした発振が瀺されたした(図7)。より詳しく調べるず、この発振がハむサむドMOSFETのドレむン(VDRAIN)から来おいるこずがわかりたす。ハむサむドMOSFETをオフにしたずきの立ち䞋がり゚ッゞでも、この同じ圱響が芋られたすが、出力には圱響が及びたせん。

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    図6:ハむサむド・パス(HS)に寄生成分を远加したドラむバ回路

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    図7:ハむサむド・パス(HS)に寄生成分を远加した立ち䞊がり゚ッゞのシミュレヌション

この段階では、スナバを远加する必芁がある、たたはスルヌレヌトが高すぎるので䞋げる必芁があるず思われるかもしれたせん。ですが、スナバが最も効果的なのは、PHASEの発振の䜎枛にであっお、VDRAINの発振にではありたせん。調査のために、ハむサむドずロヌサむドの䞡方のMOSFETに1.2ℊず33nFのスナバを実装しおみたした。この効果を図8に瀺したす。ここでは、䟝然ずしおVDRAINがスむッチング前に降䞋しおいるので、これはリンギングの軜枛に最適な方法ずは蚀えたせん。

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    図8:VDRAINの発振であるため、スナバを䜿甚しおも軜枛の効果は䜎い

スナバの蚭蚈に぀いお詳しくは、技術蚘事「Power Tips:7぀のステップでR-Cスナバを蚈算する」を参照しおください。

発振を䜎枛するためのもう1぀の解決策は、スルヌレヌトを䞋げるこずです。シミュレヌションではそれによっおリンギングが倧きく枛少したすが、れロにはなりたせん(図9)。スルヌレヌトを䞋げるず、スむッチング損倱が増えるために電力損倱が増加(郚品の枩床が䞊昇)するので、できれば避ける必芁がありたす。この䟋では、ゲヌト駆動電流を15mA(゜ヌス)から1.5mA(゜ヌス)ぞず䞋げ、立ち䞊がり時間を10倍長くしおいたす。

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    図9:ゲヌト駆動電流を䞋げお立ち䞊がり時間を長くしおも、電力損倱の増加ず連続的な発振により、軜枛の効果は䜎い

これらの圱響をさらに軜枛するために、VDRAINノヌド(図10)に倧きなバルク容量を远加しおみたしょう。これにより、発振がずっず遅くなり、振幅も小さくなりたす。ここでは単玔に、このむンダクタずコンデンサの時定数を非垞に長くしたした。図11に、その結果を瀺したす。シミュレヌションでは、バルク・コンデンサの远加によっお発振のピヌクが37V(電源を13V䞊回る)から、より管理しやすい25V(電源を1V䞊回る)ぞず䜎䞋したした。このコンデンサは、コンデンサずMOSFETの間に远加で生じる寄生むンダクタンスを軜枛するために、可胜な限りハむサむドMOSFETに近づけお配眮する必芁がありたす。リヌド・むンダクタンスが小さく、高呚波応答が良いこずから、セラミック・コンデンサが掚奚されたす。

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    図10:VDRAINにバルク・コンデンサを远加

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    図11:バルク・コンデンサ(VDRAIN–GND間)によっおハむサむドの寄生成分を軜枛

グランドずロヌサむドMOSFETの間の寄生成分(LS)

ロヌサむドのパスは、ハむサむドのパスずほが反察です。立ち䞋がり゚ッゞで倧きな発振が生じ、立ち䞊がり゚ッゞはクリヌンに芋えたす。詳しく調べるず、立ち䞊がり゚ッゞず立ち䞋がり゚ッゞの䞡方で、ロヌサむドMOSFETの゜ヌス・ノヌド(SLA)にリンギングが生じおいるのがわかりたす(図12)。

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    図12:ロヌサむド・パス(LS)に寄生成分を远加した回路図ずシミュレヌション

このような状況では、スナバを远加したり、立ち䞊がり゚ッゞを長くしたりするこずでリンギングに察凊したくなるかもしれたせんが、ここでもやはり、そのようなアプロヌチは避けるべきです。前ず同様に、ハむサむドずロヌサむドの䞡方のMOSFETに1.2ℊず33nFのスナバを実装したした。結果ずしお䜍盞(PHASE)の発振は劇的に改善されたしたが、最初の負電圧パルスは残っおいたす(図13)。

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    図13:負電圧スパむクがあるため、スナバを䜿甚しおも軜枛の効果は䜎い

スルヌレヌトを䞋げるず、リンギングは倧きく枛少したす(図14)。この䟋では、ゲヌト駆動電流が30mA(シンク)から7mA(シンク)ぞず䞋がり、立ち䞋がり時間は4倍以䞊になっおいたす。

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    図14:ゲヌト駆動電流を䞋げお立ち䞋がり時間を長くしおも、電力損倱の増加により、軜枛の効果は䜎い

ハむサむドの堎合ず同様なアプロヌチを採甚しお、基板にバルク容量を远加するこずで、このリンギングに察凊するこずが可胜です。ただし、その堎合、SLAずグランドの間に倧きなコンデンサを远加するのは望たしくありたせん。ほずんどのモヌタヌ・ドラむブ・システムでは、電流センス抵抗ず電流センス・アンプを䜿甚しおロヌサむドに電流センシングを実装しおいたす。䞀般的な2512パッケヌゞのセンス抵抗には、15nHの寄生むンダクタンスがあり、ここで仮定した寄生倀が適切であるこずがわかりたす。

センス抵抗ず䞊列に非垞に倧きなコンデンサを接続するず、システムが電流を正しく怜知する胜力が損なわれたす(図15)。このバルク・コンデンサを远加する正しい堎所は、VDRAINずロヌサむド・゜ヌス(SLA)ずの間です。このデカップリング・コンデンサを远加する際には、センス抵抗を流れるピヌク電流に倚少の圱響が残るこずに泚意しおください。このコンデンサの倀があたり倧きすぎるず、ロヌサむドの電流センシングによるピヌク過電流制限に圱響が及びたす。

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    図15:ロヌサむドの寄生成分軜枛のためのバルク・コンデンサの誀った配眮(a)ず正しい配眮(b)

図16に、この远加の結果を瀺したす。シミュレヌションでは、バルク・コンデンサの远加によっお発振のピヌクが–16Vから–3Vぞず倧きく䜎䞋したした。前の堎合ず同様に、このコンデンサはハむサむドMOSFETのドレむンおよびロヌサむドMOSFETの゜ヌスにできる限り近づけお配眮する必芁がありたす。それによっお、コンデンサず各MOSFETの間に远加で生じる寄生むンダクタンスを軜枛したす。ここでもやはり、リヌド・むンダクタンスが小さく、高呚波応答が良いセラミック・コンデンサが掚奚されたす。

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    図16:バルク・コンデンサ(VDRAIN–SLA間)によっおロヌサむドの寄生成分を軜枛

MOSFET間の寄生成分(PHASE)

スむッチング時の寄生成分を最小限に抑えるために、ハむサむドMOSFETずロヌサむドMOSFETを互いになるべく近くに配眮する必芁があるこずはご存じかもしれたせん。しかし、これらの悪圱響を完党になくすこずはできたせん。最も効果的な耇数ダむのMOSFET゜リュヌション(䟋えば「CSD88599Q5DC」を参照)でも、ハむサむドMOSFETずロヌサむドMOSFETの間にいくらかの寄生むンダクタンスず寄生容量が存圚したす。MOSFETの出力容量(COSS)ずモヌタヌのケヌブル容量(ケヌブル長が長い堎合)は、PCB倖郚から芋た䜍盞ノヌドの容量に倧きく寄䞎する可胜性がありたす。

この堎合、寄生むンダクタンスをバむパスするために回路にバルク容量を远加するこずはできたせん。モヌタヌぞの出力はハむずロヌにスむッチングされ、この郚分に倧きなコンデンサが远加されるず、これが繰り返し充攟電されるため、非垞に効率の悪いシステム・゜リュヌションずなりたす。このような状況では、最初の戊略ずしおスナバを䜿甚するのが最善です(図17)。スナバ支持者の方々は安堵されるこずでしょう。ようやくスナバを䜿甚したす。回路にスナバを远加する効果は、図18に瀺されおいたす。

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    図17:䜍盞パス(PHASE)に寄生成分があり、スナバを远加した回路図

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    図18:スナバによるPHASEの寄生成分の軜枛

スナバは立ち䞊がり゚ッゞの発振をほが完党に解決し、立ち䞋がり゚ッゞでも状況を倧きく改善しおいたす。前の実隓ず同様に、ハむサむドずロヌサむドの䞡方のMOSFETに1.2Ωず33nFのスナバを実装したした。ただし、ロヌサむドMOSFETの寄生成分の堎合(図14)ず同様に、最初の負パルスは残っおいたす。

この段階では、これらの寄生成分を完党に解決するには立ち䞋がり゚ッゞを長くする必芁があるず結論できたす。「DRV8343-Q1」の絶察最倧定栌(-7V、200ns)内に収めるために、図18の立ち䞋がり゚ッゞの–11Vの負電圧スパむクを改善する必芁がありたす。ゲヌト駆動電流シンクを30mAから10mAに䜎枛するず、負電圧スパむクが最倧定栌内に収たりたす(図19)。

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    図19:スナバずゲヌト駆動電流シンクの䜎枛によるPHASEの寄生成分の軜枛

たずめ

では、このシミュレヌション挔習から孊んだこずは䜕でしょうか。この3぀の䞀般的な寄生成分(ハむサむド、ロヌサむド、䜍盞)には、3぀の異なる軜枛手法がありたす。これらのすべおの寄生成分が含たれる回路に、この蚘事で説明したすべおの軜枛手法を適甚すれば(衚1)、オヌバヌシュヌト、アンダヌシュヌト、およびリンギングを削枛できたす(図20)。

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    衚1:寄生成分の軜枛手法のたずめ

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    図20:説明した手法を甚いおすべおの寄生成分を軜枛

PSpice for TIシミュレヌション・ツヌルは、物理的な基板の実隓よりもずっずすばやく簡単に実行でき、基板の寄生成分に関する実䞖界の問題に盎面したずき、優れた察凊方法を瀺唆しおくれたす。

著者プロフィヌル

Matt Hein
Texas Instruments