EV Group(EVG)は12月2日、ナノインプリントリソグラフィ(NIL) Photonicsコンピテンスセンターを設立したと発表した。
同センターは、同社のNILソリューションを活用できるように設計されており、ユーザーがフォトニクスの分野において、新しい機能の製品とアプリケーションを実現できるようにサポートしていくという。NILで形成されたフォトニック構造には、光の取り出し効率を改善できるLEDや、光の取り込み効率を改善できる太陽電池、またはレーザダイオードなどが含まれ、フォトニック構造によりデバイス特性を調整して、性能の向上を図ることができるという。
なお、NIL Photonicsコンピテンスセンターでは、オーストリアのEVG本社だけでなく、北米および日本の子会社の最先端クリーンルームにて、専属プロセスチームによるグローバルサポート、パイロットラインの生産設備とサービスが利用できるとしている。
