半導体洗浄装置大手の大日本スクリーン製造(DNS)は、最大800枚/時のスループットを実現した処理能力と、世界最高クラスのチャンバ清浄度を両立させた、半導体ウェハ向け枚葉式洗浄装置「SU-3200」を開発したことを発表した。2010年12月から販売を開始する予定。
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半導体ウェハ向け枚葉式洗浄装置「SU-3200」 |
半導体デバイスは32/28nmプロセスの量産が一部で始まり、22nmプロセス以下の微細化に向けた技術開発も進められている。そうした中、回路形成工程の多くを占める洗浄処理では、さらなるスループットと微細化への対応が求められていた。
同装置は、チャンバのサイズを従来の約半分に小型化することで、最大12台のチャンバの搭載を可能とし、ウェハの搬送能力の向上とあわせて、1時間あたり最大800枚のウェハ処理能力を実現した。
また、洗浄処理能力も、同社独自のクリーン化技術「APAC」を搭載することで、22nmプロセスなどの微細プロセスにも対応することが可能となっている。
さらに、使用する薬液の変更が容易な薬液供給システムや、ダウンタイムを低減できる新ユニット構造を採用するなど、メンテナンス性も向上させた製造装置となっている。
