TowerJazzは、5V 65nmプロセスを発表した。同プロセスは、0.18μm 5Vプロセスに比べて優れたRDSON特性と面積シュリンクの効果を実現する。なお、同技術は業界最高水準の自動車品質とサイクルタイムを保有する魚津工場の300mm 65nmプロセスプラットフォームを元にした技術であるという。

すでにこの技術は公式リリースされており、開発費用を削減するためのマルチレイヤマスク(MLM)やマルチプロジェクトウェハ(MPW)オプションも利用が可能だという。最初のMPWは2017年11月に予定されている。

同プロセスは、低いRDSONによる高い効率と、パワーデバイスとしては微細な配線ルール、および大電流用途のための最上層厚膜Cu配線も提供可能とする。これにより、少ないマスク枚数で、高密度アナログ周辺回路、高集積デジタル回路を実現する。また、従来の5Vパワートランジスタに対して、30%の面積縮小を可能にするとともに、ミックスドシグナルLSIの面積を35%削減するとしている。