「EUV」のニュースまとめ

極端紫外線と呼ばれる波長13.5nmの光を用いて、1桁nmの微細なプロセスを採用した半導体を形成する露光技術である「EUV」を活用した最先端の半導体実現に向けた研究活動や企業動向についてお届けします。

• テクノロジー

  Micron、1γ nmプロセスを採用したDDR5 DRAMのサンプル出荷を開始

  2025/02/27 14:54 レポート
• テクノロジー

  半導体露光装置を全4回のチャーター便でオランダから日本に空輸、日本貨物航空ら

  2025/01/31 14:58
• テクノロジー

  ASMLの2024年第4四半期売上高は前年同期比28％増、受注額も市場予測の2倍と好調

  2025/01/30 13:48 レポート
• テクノロジー

  imec、ラムリサーチのドライレジスト技術をEUV向け28nmピッチBEOL向けに認定

  2025/01/21 16:06
• テクノロジー

  DNP、EUV向けフォトマスク上での2nm世代以降のパターンの解像に成功

  2024/12/12 10:40
• テクノロジー

  2024年のフォトマスク市場はプラス成長の見通し、eBeam Initiative調べ

  2024/11/20 10:43
• テクノロジー

  imecが高NA EUV活用でムーアの法則の延命を宣言、ITF Japan 2024

  2024/11/13 12:34 レポート
• テクノロジー

  米商務省がNSTCの旗艦R＆D施設をアルバニーとシリコンバレーに設置、10月には4社への補助金支給を決定

  2024/11/05 15:54 レポート
• テクノロジー

  ASMLの2024年第3四半期売上高は前四半期比19.6％増の75億ユーロと好調も2025年見通しを下方修正

  2024/10/18 10:52
• テクノロジー

  TSMCの2024年8月売上高は前年同月比33％増、8月単月売上高の過去最高を更新

  2024/09/11 14:25
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  産総研とEUV研究で連携、前工程から後工程まで半導体技術開発で日本との関係性強化を図るIntel

  2024/09/03 18:46 レポート
• テクノロジー

  imec、高NA EUV露光によるロジックとDRAMの良好なパターニング結果を確認

  2024/08/08 15:59
• テクノロジー

  九大、EUV光照射と解析評価サービスを提供する事業会社「EUVフォトン」を設立

  2024/08/06 21:40
• テクノロジー

  OIST、消費電力従来比1/10以下のEUVリソグラフィー半導体製造技術を提案

  2024/07/30 19:09
• テクノロジー

  宇大など、EUV光源の高効率化に貢献するマルチレーザー照射法を実証

  2024/07/29 12:05
• テクノロジー

  TSMC、Intel、SK hynixが語る半導体産業/技術の将来展望 - ITF World 2024 第2回 TSMCのSVPが語った半導体の技術進化と産業の発展の密接な関係性

  2024/07/18 11:29 連載
• テクノロジー

  米国政府がCHIPS法に基づく研究開発施設の選定方法を発表、NSTCの稼働は2025年以降を予定

  2024/07/16 15:18
• テクノロジー

  TEL、EUV露光工程向けガスクラスタービーム装置「Acrevia」の販売を開始

  2024/07/09 12:53
• テクノロジー

  ASMLとSamsung、韓国華城市に次世代EUV活用研究開発センターの建設を計画

  2024/07/09 11:07
• テクノロジー

  imecがロジック向け微細化ロードマップを更新、ASMLが超高NAのEUV装置の開発を開始

  2024/06/25 14:51 レポート