「EUV」のニュースまとめ

極端紫外線と呼ばれる波長13.5nmの光を用いて、1桁nmの微細なプロセスを採用した半導体を形成する露光技術である「EUV」を活用した最先端の半導体実現に向けた研究活動や企業動向についてお届けします。

• テクノロジー

  ASMLの2025年第2四半期売上高は前年同期比23％増の77億ユーロと好調も2026年は不透明

  2025/07/17 10:40 レポート
• テクノロジー

  次世代半導体の実現に欠かせない日本、Playground Globalが目指す日本半導体業界との協業

  2025/06/25 06:30 レポート
• テクノロジー

  吉川明日論の半導体放談 第340回 米中対立の狭間で微妙な立場にある孤高のASML

  2025/06/17 06:32 連載
• テクノロジー

  Micronが1γプロセス採用LPDDR5Xの出荷を開始、スマホのAI処理を高速化

  2025/06/09 17:21
• テクノロジー

  Xiaomiが3nm SoCをスマホに搭載、中国政府が蘭政府にEUV装置の禁輸解除を要求

  2025/05/27 15:53 レポート
• テクノロジー

  EUV露光装置の消費電力を加速器の活用で低減、KEKが研究開発を開始

  2025/05/23 21:15
• テクノロジー

  ASMLの2025年第1四半期売上高は前年同期比46％増の77億ユーロ、高NA EUVが成長を後押し

  2025/04/17 11:08 レポート
• テクノロジー

  TELとIBMが先端半導体技術の共同研究開発契約の延長で合意、次世代半導体開発を加速

  2025/04/03 11:49
• テクノロジー

  Rapidusが2nmパイロットラインの立ち上げを開始、委託元のNEDOが2025年度計画と予算を承認

  2025/04/01 18:56 レポート
• テクノロジー

  imecとZEISS、2nm以降の半導体開発に向けた戦略的パートナーシップ契約を締結

  2025/04/01 14:09
• テクノロジー

  Intel Foundry技術開発責任者が語ったAI時代の技術革新 - ISSCC 2025

  2025/03/27 14:57 レポート
• テクノロジー

  imec、高NA EUVでパターニングした20nmピッチの金属配線の高歩留まりを実証

  2025/03/05 11:07
• テクノロジー

  Micron、1γ nmプロセスを採用したDDR5 DRAMのサンプル出荷を開始

  2025/02/27 14:54 レポート
• テクノロジー

  半導体露光装置を全4回のチャーター便でオランダから日本に空輸、日本貨物航空ら

  2025/01/31 14:58
• テクノロジー

  ASMLの2024年第4四半期売上高は前年同期比28％増、受注額も市場予測の2倍と好調

  2025/01/30 13:48 レポート
• テクノロジー

  imec、ラムリサーチのドライレジスト技術をEUV向け28nmピッチBEOL向けに認定

  2025/01/21 16:06
• テクノロジー

  DNP、EUV向けフォトマスク上での2nm世代以降のパターンの解像に成功

  2024/12/12 10:40
• テクノロジー

  2024年のフォトマスク市場はプラス成長の見通し、eBeam Initiative調べ

  2024/11/20 10:43
• テクノロジー

  imecが高NA EUV活用でムーアの法則の延命を宣言、ITF Japan 2024

  2024/11/13 12:34 レポート
• テクノロジー

  米商務省がNSTCの旗艦R＆D施設をアルバニーとシリコンバレーに設置、10月には4社への補助金支給を決定

  2024/11/05 15:54 レポート