「EUV」のニュースまとめ

極端紫外線と呼ばれる波長13.5nmの光を用いて、1桁nmの微細なプロセスを採用した半導体を形成する露光技術である「EUV」を活用した最先端の半導体実現に向けた研究活動や企業動向についてお届けします。

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  吉川明日論の半導体放談 第360回 中国で極秘裏に始動した「中国版マンハッタン計画」

  2026/01/06 14:10 連載
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  imec、EUVリソ活用による300mmウェハスケール固体ナノポア製作に成功

  2025/12/12 10:52
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  DNP、1.4nm世代にも対応可能な回路線幅10nmNIL用テンプレートを開発

  2025/12/09 12:04
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  米トランプ政権、元インテルのゲルシンガー氏の半導体スタートアップに1億5000万ドルの出資

  2025/12/03 14:57
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  ADEKAがEUV向けMOR用金属化合物のプラント新設を決定、投資額は32億円

  2025/11/21 11:39
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  ASMLの2025年第3四半期の売上高は75億ユーロ、中国向けが全体の42％に

  2025/10/20 14:47 レポート
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  9月27日～10月3日の注目半導体ニュース - Intelのオハイオ工場の開設延期に米議員が圧力

  2025/10/03 21:19 レポート
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  SCREENとIBM、次世代EUVリソグラフィ向け洗浄プロセス開発に関する契約締結

  2025/10/01 19:19
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  9月22日～9月26日の注目半導体ニュース - 中国勢が露光装置の開発を加速

  2025/09/26 20:36 レポート
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  中国勢が開発した液浸露光装置をSMICが評価か？、EUVも開発中　海外メディア報道

  2025/09/25 10:59 レポート
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  JSRとInpriaがLam Researchと協業、次世代半導体製造に向けたクロスライセンス契約を締結

  2025/09/24 16:04
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  eBeam Initiative、2025年のフォトマスク市場をプラス成長と予測　AGCが新メンバーとして加入

  2025/09/24 12:45
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  imec、単一露光の高NA EUVリソグラフィで13nm CDの20nmピッチライン形成に成功

  2025/09/24 12:16
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  imec、2nm以降のプロセス開発に向けた高NA EUV露光装置を既存研究開発ラインに設置へ

  2025/09/17 15:29 レポート
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  アドバンテスト、2nm以降の先端プロセス向けフォトマスク用CD-SEM「E3660」を発売

  2025/09/10 18:35
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  SK hynix、半導体業界初となる商用高NA EUV露光装置を利川のM16ファブに導入

  2025/09/04 10:45
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  中国、8nmの線幅を描画可能で0.6nmの定位精度を持つ商用電子ビーム露光装置を開発

  2025/08/25 16:37 レポート
• テクノロジー

  市場拡大が期待されるフォトマスク市場、先端プロセスで成長を目指すテクセンド

  2025/08/01 06:45 レポート
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  ASMLの2025年第2四半期売上高は前年同期比23％増の77億ユーロと好調も2026年は不透明

  2025/07/17 10:40 レポート
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  次世代半導体の実現に欠かせない日本、Playground Globalが目指す日本半導体業界との協業

  2025/06/25 06:30 レポート