金属汚染量の評価結果。SiとCuの同時研削直後(左)、残留金属低減処理後(右)。無電解Ni-Bめっき後、Siウエットエッチングを行うことで、Si上の残留銅を、一般的な金属濃度以下まで除去することに成功した (出所:JSTプレスリリースPDF)
Rapidusが2nmパイロットラインの立ち上げを開始、委託元のNEDOが2025年度計画と予算を承認
Intelの新CEOに就任したLip-Bu Tan氏が語った今後の方向性 - Intel Vision 2025
ベトナム政府が同国初の前工程工場の建設を承認、ベトナムメディア報道
imecとZEISS、2nm以降の半導体開発に向けた戦略的パートナーシップ契約を締結
日立ハイテク、山口県の笠戸地区にて半導体製造装置の新製造棟が竣工
インテルや東芝といった半導体メーカーや、CPU、メモリなどの半導体デバイスに関わる情報、市場トレンドといったホットなニュースを毎日更新。注目のIoTや自動運転など、半導体の適用範囲の拡大とともに成長が続く半導体業界の話題を詳細な説明付きで紹介します。