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レポート

産総研とEUV研究で連携、前工程から後工程まで半導体技術開発で日本との関係性強化を図るIntel

産総研グループとして見た場合の半導体開発体制。以前から有するスーパークリーンルームはもとより、Rapidusと連携して先端プロセスを推進するLSTCや、設計支援に向けたOpenSUSIといった幅広い取り組みを近年は推進している。従来、LSTCでは2nm以降のデバイス開発に向けて必須となるEUV露光装置について、Rapidusのパイロットラインを借りる形で開発を進めていく予定としていたが、今回のIntelとの連携により、それとは別に新たにEUV拠点が設置されることとなる模様である

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