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透過型電子顕微鏡を用いたデバイスの断面観察像(アークプラズマ蒸着のパルス数:(a)10回、(b)20回、(c)40回、(d)80回)。同蒸着のパルス数によってSi基板表面に形成される構造、ナノ粒子の密集度を制御できることがわかる。最適条件としてパルス数(40回でデバイスが作製された)(出所:京大プレスリリースPDF)

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