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原子レベルに薄い半導体の大面積・高品質合成、岡山大が成功

(a)マイクロリアクタ内部でのTMDC成長の模式図。(b)サイズの大きな単層WS₂結晶の顕微鏡画像。(c)巨大単結晶WS₂が成長したシリコンウェハの画像。(d)WS₂/MoS₂面内ヘテロ構造の顕微鏡画像。右上の挿入図は、WS₂/MoS₂面内ヘテロ構造の模式図 (出所:岡山大プレスリリースPDF)

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