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前工程向け材料のカテゴリ別市場予測(単位:10億ドル)。シリコンウェハはウェハサプライヤの売り上げだけを計上(SOIは含むが再生ウェハは含まず)、フォトマスクは半導体メーカーによる内製分を含む、フォトレジスト関連は、フォトレジスト剥離薬液、現像液、反射防止コーティング剤、コントラスト強調剤、エッジビード剥離剤、接着促進剤などを含む。スパッタのターゲットは、Linx Consultingの調査データに基づくもので、貴金属を含む。そしてCMPスラリは用途をICのみに限定して推測した値 (出所:SEMI)

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