半導体製造装置を手がける東京エレクトロン(TEL)は、米SEMATECHが米国ニューヨーク州アルバニーにあるナノスケール科学工科大学(CNSE)にて実施しているEUVリソグラフィプログラムに、参画したことを発表した。

TELは、これによりSEMATECHと共同で、EUV露光技術と、それに関連するマスク欠陥の削減、マスク計測、光源、レジストプロセス、エッチングといった製造方法や技術の拡張性についての研究を行っていくこととなる。

半導体業界では、次世代露光技術とされるEUV露光技術を用いた試作ラインの稼動が1年以内に開始される計画だが、EUVレジストプロセスにおいて残されている課題として、パターン倒れやLWR(Linewidth Roughness)の減少、LWRのウェハ面内均一性などがある。TELとSEMATECHは、これらの課題に対して共同で試作ラインの実現に向け取り組んでいくという。