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金属汚染量の評価結果。SiとCuの同時研削直後(左)、残留金属低減処理後(右)。無電解Ni-Bめっき後、Siウエットエッチングを行うことで、Si上の残留銅を、一般的な金属濃度以下まで除去することに成功した (出所:JSTプレスリリースPDF)
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インテルや東芝といった半導体メーカーや、CPU、メモリなどの半導体デバイスに関わる情報、市場トレンドといったホットなニュースを毎日更新。注目のIoTや自動運転など、半導体の適用範囲の拡大とともに成長が続く半導体業界の話題を詳細な説明付きで紹介します。