従来型(左)と、今回発表された新型EUVリソグラフィー(右)。従来型に比べて非常にシンプルな設計とすることで、高い安定性とメンテナンス性、高いコントラスト、マスク3D効果の減少などさまざまな利点が生まれた。また、わずか20Wの小型EUV光源で動作するため、消費電力がおよ1MWの従来技術に比べ、消費電力が100kW以下と10分の1となるという(c) 新竹積(OIST)(出所:OIST Webサイト)
中YMTCがMicronを11件の半導体メモリ特許侵害で米国裁判所に提訴、海外メディア報道
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宇大など、EUV光源の高効率化に貢献するマルチレーザー照射法を実証
村田製作所、小型化と大容量化を両立させた積層セラミックコンデンサを開発
ASEの米国子会社ISE Labsがサンノゼに2つ目の施設を新設、ラボスペースを倍増
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