Veeco Instrumentsは9月8日、GaN成膜用MOCVD「TurboDisc EPIK700」を発表した。

同製品は、現世代のシステムに比べて保有コストを最大で20%低減する。また、1リアクタもしくは2リアクタの構成から選択可能で、最新のIsoFlangeとTruHeatなど、ウェハキャリア全体で均質な層流と均一な温度特性を実現する革新的な技術を特徴としている。これらの技術は波長の均一性を高め、装置の歩留りを向上させる。また、同製品は大容量のリアクタを備えているため、他のシステムの2.5倍のスループットを実現している。

さらに、量産に適した設計となっており、4インチ×31枚、6インチ×12枚、8インチ×6枚のウェハキャリアに対応できる。加えて、既存のTurboDiscシステムから「EPIK700」プラットフォームへの移行が容易で、高品質LED生産の迅速な立ち上げが可能である。この他、将来のアップグレードと性能向上を可能にする柔軟なプラットフォームとなっていることも特徴であり、その独自性を将来にわたって維持するとしている。