長瀬産業とナガセケムテックス、Sachemの3社は、半導体製造に使用される高純度現像液である「テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)」の回収・再生事業を展開することを発表した。
リサイクルが難しいフォトリソ工程向け現像液
半導体チップは、シリコンウェハに回路を形成する前工程と、回路が形成されたシリコンウェハを半導体チップとして組み立てる後工程に分かれて製造され、前工程ではウェハに光を照射して回路パターンを描く工程である「フォトリソグラフィ工程」を繰り返すことでシリコンウェハ上に回路を形成する。
このフォトリソグラフィ工程において回路形成を行う際、半導体用高純度現像液(TMAH)が必要となるのだが、このTMAHの再生には高度な電解・精製技術を要することから、これまで回収・再生による再利用は困難とされており、環境負荷や収益面での課題となっていたという。
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半導体工場にて使用済みTMAH廃液を再びTMAHとして再利用するイメージ図(出所:長瀬産業)
同事業では、3社の合弁会社であり現像液の再生事業を手掛けるSN Techが電解・精製技術を導入し東大阪にて新工場を設立する計画で、使用済みTMAH廃液を回収・再生し、再びTMAHとして再利用していくとする。
廃液回収プラントビジネスも展開予定
また、SN Techは現像液の廃液を原料として回収するプラント「Green Mobius System」の製造・販売も半導体工場向けに実施していく予定だとしている。
すでに同社では液晶パネル製造で使用される現像液の回収・再生事業を2008年から取り組んでおり、そうした取り組みの中で培ってきた技術力とノウハウを生かし、今回の事業ではより高度な電解・精製技術を必要とするTMAHの再利用とそのモデルケースの確立に取り組むことにしたとのことで、この取り組みを通じて半導体製造工場のTMAHや水の再利用と安定調達、エネルギー削減の実現のほか、半導体事業における収益性の改善や環境に配慮した持続可能なビジネスモデルの確立につながることが期待されるとしている。
なお同事業では、今後日本国内で年間1万tの高純度現像液を製造する計画だとし、今回のビジネスモデルをモデルケースとし、海外に向けての展開も視野に入れ半導体関連事業の拡大を目指すとしている。
