Cymerは12月1日、ArF液浸露光装置用DUV光源「XLR 700ix」を発表した。
同製品は、独自の「XLR」プラットフォームを採用し、バンド幅、波長ならびにエネルギー安定性の向上により、露光装置のスキャンスループットの向上と14nm以降のプロセスの安定化を可能とする。また、300±5fmという厳しいバンド幅コントロール性能を提供することで、プロセス変動要因としてのバンド幅をウェハ上のパフォーマンスから実質的になくした。さらに、独自技術によりパルスごとのクローズドループ制御が可能になり、安定した性能を実現している。
そして、高デューティサイクル稼動など、あらゆる運転条件下で安定した光源パフォーマンスを実現しつつ、ヘリウムガス使用量を50%削減している。加えて、実績のある最新の主発振器(MO)チャンバを搭載することで、電力消費を15%削減し、生産コストを低減する。この他、自動チャンバ調整機能や、自動ガス最適化機能など、光源装置のパフォーマンス予測と稼動率を改善する新たなソフトウェアを搭載し、厳しい半導体生産スケジュールに応えうる高い装置効率を有するとしている。
なお、「XLR 700ix」は、2015年第1四半期より出荷が開始される。
